树脂和包含其的光刻胶组合物的制作方法

专利名称：树脂和包含其的光刻胶组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及树脂和包含其的光刻胶组合物。
背景技术：
用于采用光刻工艺进行半导体制造的光刻胶组合物包含树脂、产酸剂和碱性化合物，所述树脂具有衍生自具有酸不稳定基团的化合物的结构单元，不可溶于或较难溶于碱性水溶液中但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液中。US 2009/020945 Al公开了一种通过聚合下式所表示的单体而获得的含氟树脂。
权利要求
1.一种树脂，其包含衍生自式(I)所表示的化合物的结构单元
2.根据权利要求I所述的树脂，其中在所述式(a-gl)中s为O。
3.根据权利要求I所述的树脂，其中在所述式(a-gl)中A11为C1-C6烷二基。
4.根据权利要求I所述的树脂，其中在所述式(a-gl)中A11为亚乙基。
5.根据权利要求I所述的树脂，其中在所述式(I)中A2为C1-C3全氟烷二基。
6.根据权利要求I所述的树脂，其还包含衍生自具有酸不稳定基团的化合物的结构单
7.根据权利要求6所述的树脂，其中所述具有酸不稳定基团的化合物是由式(al-1)或(al-2)所表示的单体
8.根据权利要求I所述的树脂，其还包含衍生自没有酸不稳定基团并且具有羟基金刚烷基的化合物的结构单元。
9.根据权利要求8所述的树脂，其中所述没有酸不稳定基团并且具有羟基金刚烷基的化合物是由式(a2_l)所表示的单体
10.根据权利要求I所述的树脂，其还包含衍生自没有酸不稳定基团并且具有内酯环的单体的结构单元。
11.根据权利要求10所述的树脂，其中所述没有酸不稳定基团并且具有内酯环的单体是由式(a3_l)、(a3_2)或(a3_3)所表不的单体
12.根据权利要求I所述的树脂，其还包含衍生自没有酸不稳定基团并且具有一个或更多个氟原子的单体的结构单元。
13.根据权利要求12所述的树脂，其中所述没有酸不稳定基团并且具有一个或更多个氟原子的单体是由式(a4_l)所表示的单体
14.一种光刻胶组合物，其包含根据权利要求I至13中任一项所述的树脂和产酸剂。
15.根据权利要求14所述的光刻胶组合物，其还包含溶剂。
16.一种用于产生光刻胶图案的方法，包括以下步骤(I)至(5) (1)将根据权利要求14或15所述的光刻胶组合物施加到衬底上的步骤， (2)通过进行干燥来形成光刻胶膜的步骤， (3)使所述光刻胶膜暴露于辐射的步骤， (4)烘烤曝光的光刻胶膜的步骤，和 (5)利用碱性显影剂使所烘烤的光刻胶膜显影，由此形成光刻胶图案的步骤。
全文摘要
本发明提供树脂和包含所述树脂和产酸剂的光刻胶组合物，所述树脂包含衍生自式(I)所表示的化合物的结构单元其中R1表示氢原子或甲基，A2表示二价含氟C1-C12烃基，并且A1表示由式(a-g1)所表示的基团其中A10在每次出现时独立地为C1-C5脂肪族烃基，A11表示C1-C5脂肪族烃基，X10在每次出现时独立地为-O-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，并且s表示0至2的整数。
文档编号G03F7/00GK102746457SQ20121011234
公开日2012年10月24日 申请日期2012年4月16日 优先权日2011年4月19日
发明者增山达郎, 市川幸司 申请人:住友化学株式会社