抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法

专利名称：抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法
技术领域：
本发明涉及抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。
背景技术：
专利文献JP-2010-197413A描述了一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含树脂和酸生成剂，所述树脂包含由式(u-A)和式(u-B)表示的结构单元的聚合物，和由式(u-B)、式(u-C)和式(u-D)表示的结构单元的聚合物。
权利要求
1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含 具有由式(I)表示的结构单元的树脂， 在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，
2.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A1是1，2_亚乙基。
3.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中式⑴中的A13是C1至C6全氟烷二基。
4.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的X12是*-C0-0-，*表示与A13的连接。
5.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A14是环丙基甲基、环戊基、环己基、降冰片基或金刚烧基。
6.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中式(II)中的Lbl是由式(Ll-I)表示的基团，
7.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，其中在式(II)中的Z1+是三芳基锍阳离子。
8.根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物还包含溶剂。
9.一种用于生产抗蚀图案的方法，所述方法包括下列步骤 (1)将根据权利要求I所述的抗蚀剂组合物涂敷到基材上； (2)将涂敷的组合物干燥以形成组合物层； (3)将所述组合物层曝光； (4)将曝光的组合物层加热，和 (5)将加热的组合物层显影。
全文摘要
本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和酸生成剂，其中R1、A1、A13、A14、X12、Rb1、Rb2、Lb1、环Wb1、Rb3、Rb4、m和Z1+如说明书中限定。
文档编号G03F7/004GK102890412SQ201210251269
公开日2013年1月23日 申请日期2012年7月19日 优先权日2011年7月19日
发明者市川幸司, 平冈崇志, 坂本宏 申请人:住友化学株式会社