用于微光刻的投射物镜的制作方法

专利名称：用于微光刻的投射物镜的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于微光刻的投射物镜，其包括至少一个带有光学元件的光学组件， 这些光学元件设置在物面和像面之间，其中光学组件包括至少一个靠近像面设置的光学终 端元件，在该光学终端元件的像朝向表面上设置有第一浸没液体，在该光学终端元件的物 朝向表面上设置有第二浸没液体，物朝向表面包括用于使成像光进入终端元件的第一表面 部分，像朝向表面包括用于使成像光从终端元件出射的第二表面部分。
背景技术：
用于微光刻的投射装置被用于在基底上产生微结构，例如用于半导体元件的生 产。这样，设置在投射物镜物面中的掩模母版或者设置在投射物镜物面中的掩模的结构被 成像到像面中，要被曝光的基底(例如晶片)位于像面。投射物镜的光学系统典型地包括若干光学组件，每个光学组件包括多个光学元 件，例如透镜或反射镜。文献US2003/0021040A1中公开了折反射投射光学系统的一个例 子。该文献的公开内容通过引用结合于此。在用于微光刻的数值孔径NA > 1. 0的浸没透镜中，晶片前方最后的像朝向光学元 件典型地是平凸透镜，其凸表面构造成几乎为半圆形。该平凸透镜的凸表面设置成物朝向 的(掩模母版朝向的)，而该平凸透镜的平表面设置成像朝向的(晶片朝向的)。换句话说， 平凸透镜的平表面形成光学系统的朝向像面并由此朝向基底的最后转变表面。为了避免反射，特别是全反射，在该平面处，在最后的像朝向光学元件和基底之间 提供浸没液体。浸没物镜的典型构造的一个实施例在凸1中示出，该示了浸没物镜的终端组 件1，其中浸没液体3设置成像朝向的并邻近平凸透镜2的平面2。该组件包括光阑4。所述光学元件2在光学系统中的位置可以描述为平表面2a接近场(field)，而凸 表面2b不得不被认为是接近光瞳的。在该系统中，没有光学元件设置为最接近晶片，为此 其两个表面都不接近光瞳。图2和3强调只有最接近晶片的平凸透镜的平表面能够被认为是接近场，而最接 近晶片的透镜2的凸表面不得不被认为是接近光瞳的。图2示出透镜2的凸表面2b上的 不同场点的光束5的足印(footprint)。正如对接近光瞳的表面所期望的那样，光束强烈重 叠。与光轴的交点6位于光束5内部相对中心处。图3示出光束从透镜2出射时透镜2的平表面2a上的相同光束的足印5’。图3 中可以显然地看到，与光轴的交点6’位于相对于光束5’组的高度偏心的位置上。存在光 束5’不重叠的场点这一事实显示光学元件2的平表面2a接近场。包括位于光学系统终端的平凸透镜的当前浸没光学系统的一个缺点在于，随着时 间的过去平凸透镜受到浸没液体的影响。具体而言，在透镜上沉积污染物，例如由基底表 面、光漆等，这导致成像质量下降和光学元件使用寿命缩短。为了利用透镜物镜的使用寿命，更换终端元件是一种选择。然而，更换平凸透镜很困难而且非常昂贵，尤其是平凸透镜由昂贵材料制成时。由于这个原因，提出引入平板作为 靠近晶片的终端光学元件，平板能够容易地替换，从而能够在成像质量变差时被更换掉。传统浸没光刻物镜的另一个问题是由于散射辐射造成成像质量变差。为了大体上 防止散射辐射对基底的影响，在例如光学组件之间使用了相应的光阑。在W02006/128613A1、JP2004/246343A1、US2004/0001190AU JP2005/086148A 及 EP176871A1中可找到目前的浸没光刻物镜和技术。

发明内容
发明目的针对目前的技术，本发明的一个目的是提供一种用于微光刻的光学系统，其有利 于持续改善成像质量。技术方案该目的通过根据专利权利要求1、2、4和21的用于微光刻的投射物镜得以实现。有 利的实施例可以由从属专利权利要求得到。一种用于微光刻的、根据本发明的投射物镜包括具有光学元件的至少一个光学组 件，所述光学元件设置在物面和像面之间，其中，所述光学组件包括至少一个设置成接近像 面的光学终端元件。在光学终端元件的像朝向表面上设置有第一浸没液体；在光学终端元 件的物朝向表面上设置有第二浸没液体。所述浸没液体可以包括相同或不同的成分。物朝 向表面包括用于成像光进入终端元件的第一表面部分。像朝向表面包括用于成像光从终端 元件出射的第二表面部分。根据本发明，光学终端元件包括用于防止干涉光束和/或散射 光束通过的装置。所述投射物镜是用于浸没微光刻的物镜。该投射物镜包括一光学系统，特别是折 反射光系统，数值孔径至少为1.0。在光学终端元件的像朝向表面和基底之间，引入浸没液体，以防止在从光学系统 出射时成像光防止反射，特别是全反射。在本发明中，浸没液体还引入到终端元件前的光学 元件(特别是平凸透镜)和终端元件之间。通过这种方式，成像辐射的顺利转化在平凸透 镜和光学系统中设置成最接近像面的光学元件(终端元件)之间被促进。在光学系统中，例如组件之间，可以插入其它散射光光阑，例如在平凸透镜和终端 元件之间的部分中。它们可以作为机械部件插入，或者它们可以构造成设置在光学部件上 的吸收/反射层。第一和第二浸没液体可以具有相同或不同的成分。上述目的通过用于微光刻的投射物镜实现，所述投射物镜包括具有光学元件的 至少一个光学组件，所述光学元件设置在物面和像面之间，其中所述光学组件包括至少一 个光学终端元件，该光学终端元件设置成接近所述像面，其中在所述光学终端元件的像朝 向表面上设置有第一浸没液体，并在所述光学终端元件的物朝向表面上设置有第二浸没液 体，所述物朝向表面包括用于成像光进入到所述终端元件中的第一表面部分，所述像朝向 表面包括用于成像光从所述终端元件出射的第二表面部分，所述光学终端元件包括双折射 材料。所述双折射材料由此可以是线性双折射的(例如，结晶的石英晶体、蓝宝石)、圆双折 射的(例如，结晶的石英晶体)或本征双折射的(例如氟化钙CaF2、镥铝石榴石LuAG)。双折射材料特别构造成使得光学组件的双折射效果被最小化。典型地，位于终端元件之前的平凸透镜以及终端元件由双折射晶体材料制成。所述元件的晶轴相对地构造成 减小、特别是最小化双折射。 上述目的还通过用于微光刻的投射物镜来实现，所述投射物镜包括包括光学元 件的至少一个光学组件，所述光学元件设置在物面和像面之间，其中所述光学组件包括至 少一个光学终端元件，该光学终端元件设置成接近所述像面，在所述光学终端元件的像朝 向表面上设置有第一浸没液体，并在所述光学终端元件的物朝向表面上设置有第二浸没液 体，所述物朝向表面包括用于成像光进入到所述终端元件中的第一表面部分，所述像朝向 表面包括用于成像光从所述终端元件出射的第二表面部分，所述光学终端元件包括双折射 材料，所述投射物镜包括用于检测和/或控制所述第一浸没液体和/或第二浸没液体的温 度和/或压力的装置。特别是，所述投射物镜包括至少一个用于测量所述第一浸没液体和 /或所述第二浸没液体中的压力和/或温度的测量装置。所述投射物镜优选地包括用于改变第一浸没液体和/或第二浸没液体的温度和/ 或压力的装置。这样，可以设置在例如贮液器中设置的第一和/或第二浸没液体的加热器 或冷取元件，通过这种方式可以控制浸没液体的相应的温度。相同的可以适用于浸没液体 压力，浸没液体压力同样是可控或可调节。通过这种方法，可以通过选择浸没液体的成分以 及/或者通过控制浸没液体的温度和/或压力来调节和改变折射率。通过控制浸没液体中 的折射率，可以对光学系统的各种波动或变化进行补偿。系统可以进一步适应变化的需求。具体而言，终端元件的第一表面部分被构造成用于成像光的进入，同样地，终端元 件的构造成用于成像光的出射的第二表面部分设置成不接近光路中的光瞳。对于术语“接 近光瞳”，使用了在实施例中已经更为详细地阐述的定义，该定义陈述为当没有至少两个 非重叠光束不能够被成像到一个平面上(基于物的不同场点的光束)，或者等价地说，每一 对光束必然地在该表面上重叠时，该表面是接近光瞳的。在本发明的上下文中，将所有光束 成像到一个表面上被表示为各个表面上的“足印”。优选，终端元件包括至少一个平板。该平板特别是平面平行板，投射物镜的工作状 态下，平板的进入面和出射面位于浸没液体中，或被浸没液体覆盖。通过浸没液体，掩模母 版朝向的邻近的平凸透镜(更确切地是它的平面)与第一表面部分之间的间隙以及第二表 面部分与待曝光的基底之间的间隙被桥接。作为平板，不仅包括绝对平面平行或平面元件 (半径无穷大)。本发明意义上的平板还包括大半径，例如|R| > IOOOmm或者小曲率|r =1/|R| < 0.001mm1。此外，作为平板，具有包括球面或非球面结构的表面的元件也应该 被包括，条件是至少第一表面部分和第二表面部分总体上包括了小的局部曲率。提供两侧均立于浸没液体中的平板具有以下特别的优势，即在替换设置成最接近 晶片的元件(终端元件)时，可以节省材料。在投射物镜的使用寿命期间，可能需要移除终端元件，以对其进行清洁或用基本 上相同的新元件更换它。需要替换的理由可能是沉积物，特别是在元件的晶片朝向侧上 (由浸没液体或抗蚀剂导致)或光学材料的变化及由此造成的成像性能的变化(例如压 缩)。此外，这种需要可能出现在投射物镜的使用寿命期间，为了改变第一和/或第二 浸没液体的成分继而其折射率。通过更换终端元件可以补偿由其导致的成像质量变差。因 此，有必要使终端元件的厚度适应改变后的折射率。
作为终端元件的平板可以用比例如典型用作终端元件的平凸透镜显著要少的材 料制成。在例如平凸透镜和/或平板的光学元件由贵重材料，例如LuAG、尖晶石、钡-锂氟 化物混合晶体或其它高折射率材料制成的情况下，上述优点总是相关的。因此，根据本发明 使用平板显著地节约了成本。此外，通过提供与平凸透镜分开的平板作为终端元件，获得了若干自由度，其中， 所述自由度可以用来以不同方式影响或改善投射物镜的光学性能。当平凸透镜和平板由双折射晶体材料制成时，两个元件的晶轴的相对对准可以被选择以使得双折射效果被最小化(同步)。另一种影响系统成像性能的可能是后续地使平板的一侧或两侧成为非球面的，从 而最小化组装之后检测到的成像误差。为此，为平板加设框架是有帮助的，使得其安装和移 除不太复杂。调节的其它方式可以通过线性移动和/或枢转平板的可调节框架来提供。使用两侧浸没的平板的另一个优点包括分开控制平板两侧上的浸没液体的温度 和/或压力，从而最优化成像质量。具体的，平凸透镜的材料折射率的变化和/或第一和第 二浸没液体的折射率和/或材料的折射率的变化也可以被补偿。这些折射率改变的原因可 能是物镜和/或温度效果之间的变化。优选地，终端元件是光学组件的最接近像面的光学元件，特别是整个投射物镜的 最接近像面的光学元件。在一优选实施例中，光学终端元件包括至少一个承载件，用于将平板安装于承载 件上。该承载件可以是例如从外部设置平板的保持器/底座，或上侧安装平板的承载件，等寸。具体地，用于成像光进入的第一表面部分和/或用于成像光出射的第二表面部分 由成像辐射的光束的足印确定。在一优选实施例中，平板基本上具有用于成像光进入的第一表面部分的尺寸和/ 或几何形状。在一优选实施例中，平板包括矩形的物朝向和/或像朝向表面。长度a与宽度b (a > b)的比例值具体而言在2和10之间。在另一优选实施例中，光学终端元件至少包括屏障，其对干涉或散射辐射是不可 透过的，例如，至少一个用于防止散射光透过光学终端元件的光阑可以设置在终端元件中。 该光阑可以由承载件本身形成。不过，光阑或阻挡也可以通过对承载件特别是平板的涂敷
/黑化来提供。在本发明的一个实施例中，承载件构造成用于遮蔽干涉和/或散射辐射的保持 器，其包括至少一个开口，该开口基本上对应于第二表面部分的尺寸和/或几何形状。承载 件可以构造成透光的，并可以覆盖平板的晶片朝向平表面的至少10%。具体地，承载件可以是保持器，其固定平板的外壁或为平板的外壁加框。在本发明的一特别优选的实施例中，平板的像朝向表面包括对干涉和/或散射辐 射不可透过的涂层，该涂层基本上遮挡了像朝向表面的位于第二表面部分以外的部分，使 得干涉或散射辐射不能从其通过。平板优选包括对干涉和/或散射辐射不可透过的涂层， 该涂层沿平板的在光束的通过方向上延伸的侧表面设置。在第一表面和/或第二表面部分设置成相对于投射透镜的光轴偏心时，本发明尤其不寻常和有优势。平板则不必构造和生产成关于光轴旋转对称的部件。它可以生产成矩形板，可以安装于光学终端元件中在适当位置。承载件，特别是包括不透光材料，可以用作 散射光遮挡件。这样，平板可以相对于投射物镜的光轴偏心。上述目的还可以通过用于微光刻的投射物镜来实现，所述投射物镜包括具有光 学元件的至少一个光学组件，所述光学元件设置在物面和像面之间，其中所述光学组件包 括至少一个光学元件，该光学元件设置成接近所述像面，且其中在所述光学终端元件的像 朝向表面上设置有第一浸没液体，并在所述光学终端元件的物朝向表面上设置有第二浸没 液体，所述物朝向表面包括用于成像光进入到所述终端元件中的第一表面部分，所述像朝 向表面包括用于成像光从所述终端元件出射的第二表面部分。所述第一和第二浸没液体包 括不同成分。通过这种方式，具有有利性能的浸没液体可以用于相应的目的。例如，低吸收可能 构成设置在平凸透镜和平板之间的浸没层的一个重要性能(高折射液体经常包括比水高 的吸收)。然而，对于设置在平板和基底之间的浸没层，低粘度可以为有利的。为了避免最后的透镜元件被加热以及相关的问题，将物镜侧的浸没层保持得尽可 能薄为有利的。因此，优选第二浸没液体设置成厚度最大为2mm的层，特别是最大Imm的， 特别优选最大0. 5mm的。终端元件具体地设置在可更换和/或可移除的投射物镜。对上述列出的每个特征分别地提出专利保护请求，并对可以想到的所述特征的所 有组合提出专利保护请求。


本发明的其它特点和优点结合附图对具体实施例的描述中将是显见的，所述附图 中图1示出目前的浸没物镜的细节；图2示出最接近晶片的传统透镜的凸表面上的足印；图3示出最接近晶片的传统透镜的平表面上的足印；图4示出根据本发明的浸没物镜的细节；图5示出根据本发明的系统中最接近晶片的光学元件的第一平表面的足印；图6示出根据本发明的系统中最接近晶片的光学元件的第二平表面的足印；图7示出图5和6中足印的叠加；图8以俯视图和侧视截面图示出根据本发明的终端元件的第一实施例；图9示出平凸透镜，用于解释散射光的产生；图10示出图8中的细节；以及图11以俯视图和侧视截面图示出根据本发明的终端元件的第二实施例。
具体实施例方式图1示出来自目前技术的已知的浸没物镜的细节。所示光学组件1包括若干透镜、 光阑4和构造为平凸透镜2的光学连接元件。透镜2的平面侧2a指向物面方向，因此它是朝向基底的。因此，透镜2的凸面侧2b指向像面方向，从而是朝向掩模母版的。在透镜2的平面侧2a的部分中，直接设置有浸没液体3，该浸没液体充满表面2a和待曝光基底(未示出)之间的居间空间，以防止在边界表面上发生曝光辐射的全反射。然而，浸没液体3侵袭透镜2的平表面2a，或通过包含在浸没液体中的污染物沾污 该平表面，从而随着时间的过去，成像质量变差。图2中示出光学组件1的透镜2的凸表面2b上的足印。显然，用于产生图像并进 入光学元件2的光束5强烈重叠。另一方面，光束5中的每一个包括与浸没物镜的光轴6 的交点。因此，凸表面2b被证明是透镜2接近光瞳的表面。然而，图3所示的最接近晶片的透镜2的平表面2a的足印也包括至少两个非重叠 的光束5’。因此，透镜2的平表面是接近场的。此外，图3示出透镜2的由所有穿透并用于 成像的光束5’限定的出射部分，该出射部分相对于浸没物镜的光轴8高度偏心。图4示出根据本发明的投射物镜的一个实施例的细节。组件11包括若干光学元 件和一个光阑4。组件11的设置作为朝向像的最后一个元件之前的元件的光学元件是一个 平凸透镜12，其凸表面2b设置成物朝向的，并且其平表面12a设置成像朝向的。作为组件11的最后的像朝向元件，设置了光学终端元件17，其包括平板。在透镜 12的平表面12a与光学终端元件17的平板之间，从而位于平板的物朝向表面处，以及在终 端元件17的平板的像朝向侧上，提供了相应的浸没液体13b或13a。因此，平板的两侧分别 与浸没液体13a和13b接触。从结构上可以确定，像侧的浸没液体13a的污染物不会不利影响平凸透镜12。一 旦终端元件17或终端元件17的平板19由于污染或其它不利影响而成像性能不足时，就可 以很快将他们方便地更换掉。图5示出穿过系统的光束在终端元件17的掩模母版朝向的平表面上的足印。显 然，板包括在掩模母版朝向侧上的足印的场点，所述场点的光束15不重叠。这意味着板15 的掩模母版朝向的平表面在光路中不是设置成接近光瞳。图6示出终端元件17的平板的晶片朝向的平表面17a上的足印。光束15’没有 重叠。因此，该板的像朝向的平表面17a在该光学系统中仍是设置成接近场的。而且，根据 本发明，光束15’相对于终端元件17与投射物镜的光轴16’的交点是高度偏心的。图7中，示出图5和6的足印的叠加。基于与系统光轴的交点16的位置，显然可 以看到成像光以相对于系统的光轴高度偏心的方式穿过平面平行的终端元件。边长为a和b(a > b)的细节18是由入射光束的边界限定的。出射光束15’也位 于限制18之内。根据本发明，终端元件17设置有平板，该平板大致包括具有所述部分18 的尺寸的表面和几何形状，因此包括具有边长a和b的表面。比例V = a/b在2和10之间 的范围内，这意味着平板构造成矩形表面。平板设置并固定在光学系统中，使得其仅在成像 光应该通过的部分18中透过成像辐射，并且/或者平板延伸覆盖所述部分18。因此，不必要将平板19构造和设置成旋转对称并相对于光轴居中的。仅被边界18 包围的平板部分需要制造成光学构件。这使得可以节省材料并有利于终端元件17的简单 制造。图8中，根据本发明的终端元件17的第一实施例被以俯视图和侧视截面图示出。 终端元件17大致包括平板19和承载件20。在投射物镜的工作状态下，这意味着被安装在光学系统中，平板19的两侧被浸没液体浸润。光学元件17的圆形、黑色填充的部分近似对应于设置在光学元件17前的平凸透镜12的平表面的自由直径(free diameter)。平板19包括长度a和宽度b。成像光照射的表面对应于由进入的成像辐射的足印 限定的部分18。承载件20构造成可透光的。它包括矩形开口 21，开口由边缘22限定。边缘22由 在像朝向侧从平板19出射的光束15’的足印限定。位于部分18之内的矩形22由此构成 平板19的晶片朝向平表面的部分，成像光通过该部分离开平板19并到达晶片。此外，出射 部分22和进入部分18之间的居间部分被承载件20覆盖，从而光不能透过。终端元件17 的所述构造和布置防止邻近平板的出射部分22出射的干涉光或散射光照射待曝光基底。图9示出图1或4所示的平凸透镜2、12，而浸没液体3、13b设置在透镜2、12的平 表面2a、12a的部分中。虚线限定出透镜被成像光透过的部分。通过光学边界表面上的干 涉反射或通过光学材料中的散射可能被产生的散射光和杂光(false light)，其在透镜2、 12内用箭头示意性地示出。散射光或杂光可导致图像对比度降低，或落在位于待曝光部分 以外的晶片部分上，并在该位置上造成不希望发生的效果。图10通过图示从根据图9的透镜12出射的用箭头表示的散射光，示出图8的细 节。图10中示出了如何通过光学元件的构造或平板的几何形状和支撑件20抑制干涉光。 这样，一方面通过支撑件20，另一方面通过平板的限定侧面部分23 (其可以例如设置有不 透光层(在18处))，防止散射光和干涉光通过用于成像光的出射开口 21。图11中示出光学终端元件17的构造的一个可替代实施例。终端元件17包括支 撑件20，支撑件20侧面上设置了平板19。平板19在出射部分21 (由出射部分边界22限 定)以外包括吸收或反射层，这意味着对成像辐射不可透过且防止散射光和干涉光通过的 一个层24。这样，光仅可以通过所希望的出射部分21出射。所述实施例的一个优点是所述光学元件19的朝向晶片的表面在整个像朝向部分 中基本上是平面的，因此有利于浸没液体13a在该像朝向侧上不受阻碍地流动。一般，可以在平凸透镜和平板之间的部分中使用额外的散射光光阑。这些可以构 造成机械部件和/或光学部件上的吸收/反射层。通过本发明，显微光刻投射物镜的成像质量得到实质性的改善。当最接近晶片的 元件被污染时，其可以以简单的方式、在不需要大的花费的情况下被更换。另外，通过最接 近像面的终端元件的结构和构造有效地防止了散射辐射在基底上的照射。
权利要求
一种用于微光刻的投射物镜，包括至少一个光学组件(11)，包括多个光学元件，所述光学元件设置在物面和像面之间，其中所述光学组件(11)包括至少一个光学终端元件(17)，该光学终端元件设置成接近所述像面，在所述光学终端元件(17)的像朝向表面(17a)上设置有第一浸没液体(13a)，并在所述光学终端元件(17)的物朝向表面(17b)上设置有第二浸没液体(13b)，所述物朝向表面(17b)包括用于成像光进入到所述终端元件(17)中的第一表面部分(18)，所述像朝向表面(17a)包括用于成像光从所述终端元件(17)出射的第二表面部分(22)，所述光学终端元件(17)包括用于防止干涉辐射和/或散射辐射通过所述终端元件(17)的装置。
2.如权利要求1所述的用于微光刻的投射物镜，其中，所述光终端元件(17)包括双折 射材料。
3.一种用于微光刻的投射物镜，包括至少一个光学组件(11)，包括光学元件，所述光学元件设置在物面和像面之间， 其中，所述光学组件(11)包括至少一个光学终端元件(17)，该光学终端元件设置成接 近所述像面，在所述光学终端元件(17)的像朝向表面(17a)上设置有第一浸没液体(13a)，并在所 述光学终端元件(17)的物朝向表面(17b)上设置有第二浸没液体(13b)，所述物朝向表面(17b)包括用于成像光进入到所述终端元件(17)中的第一表面部分(18)，所述像朝向表面(17a)包括用于成像光从所述终端元件(17)出射的第二表面部分 (22)，所述光学终端元件(17)包括双折射材料。
4.如权利要求2或3所述的投射物镜，其中，所述双折射材料的光轴被排列以使得所述 光学组件(11)的双折射效果被最小化。
5.如权利要求1所述的用于微光刻的投射物镜，其中，所述投射物镜包括用于检测和 /或控制所述第一浸没液体(13a)和/或所述第二浸没液体(13b)的温度和/或压力的装置。
6.一种用于微光刻的投射物镜，包括至少一个光学组件(11)，包括光学元件，所述光学元件设置在物面和像面之间， 其中所述光学组件(11)包括至少一个光学终端元件(17)，该光学终端元件设置成接 近所述像面，其中在所述光学终端元件(17)的像朝向表面(17a)上设置有第一浸没液体(13a)，并 在所述光学终端元件(17)的物朝向表面(17b)上设置有第二浸没液体(13b)，其中所述物朝向表面(17b)包括用于成像光进入到所述终端元件(17)中的第一表面 部分(18)，所述像朝向表面(17a)包括用于成像光从所述终端元件(17)出射的第二表面部 分(22)，其中所述投射物镜包括用于检测和/或控制所述第一浸没液体(13a)和/或所述第二 浸没液体(13b)的温度和/或压力的装置。
7.如权利要求5和6所述的投射物镜，其中，所述投射物镜包括至少一个测量装置，用 于测量所述第一浸没液体(13a)和/或所述第二浸没液体(13b)中的压力和/或温度。
8.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述投射物镜包括用于改变所述第一 浸没液体(13a)和/或所述第二浸没液体(13b)的温度和/或压力的装置。
9.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述终端元件(17)的用于成像光进入 的第一表面部分(18)以及所述终端元件(17)的用于成像光出射的第二表面部分(22)不 接近光路中的光瞳。
10.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述终端元件(17)包括至少一个平 板(19)。
11.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述终端元件(17)是所述光学组件 (11)的设置成最接近像面的光学元件，尤其是整个投射物镜的设置成最接近像面的光学元 件。
12.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述光学终端元件(17)包括至少一 个支撑件(20)，用于将所述平板(19)安装在该支撑件(20)上。
13.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述用于成像光进入的第一表面部分 (18)和/或所述用于成像光出射的第二表面部分(22)分别由所述投射物镜的成像辐射的 光束在所述终端元件(17)的相应表面上的足印限定。
14.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述平板(19)大致包括所述用于成 像光进入的第一表面部分(18)的尺寸和/或几何形状。
15.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述平板(19)包括基本上矩形的物 朝向表面和/或矩形的像朝向表面。
16.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述光学终端元件(17)包括至少对 干涉辐射或散射辐射不可透过的屏障。
17.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述承载件(20)构造成用于遮蔽干 涉和/或散射辐射的保持器，其中所述保持器包括至少一个开口，该开口基本上对应于所 述第二表面部分的尺寸和/或几何形状。
18.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述承载件(20)构造成保持器，该保 持器固定所述平板的外边缘。
19.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述平板(19)的像朝向表面包括涂 层(24)，该涂层对干涉和/或散射辐射是不可透过的，并且基本上遮蔽了所述像朝向表面 的位于所述第二表面部分(22)以外的部分，使得干涉或散射辐射不能从所述部分出射。
20.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述平板(19)包括至少一个涂层 (23)，该涂层对干涉和/或散射辐射是不可透过的，并且设置在所述平板(19)的基本上平 行于所述系统的光轴的侧表面上。
21.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述第一表面部分(18)和/或第二表 面部分(22)设置成相对于所述投射物镜的光轴(16)偏心。
22.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述平板(19)设置成相对于所述投 射物镜的光轴(16)偏心。
23.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述第一浸没液体(13a)和所述第二浸没液体(13b)包括不同的成分。
24.一种用于微光刻的投射物镜，包括至少一个光学组件(11)，包括光学元件，所述光学元件设置在物面和像面之间，其中所述光学组件(11)包括至少一个光学终端元件(17)，该光学终端元件设置成接 近所述像面，在所述光学终端元件(17)的像朝向表面(17a)上设置有第一浸没液体(13a)，并在所 述光学终端元件(17)的物朝向表面(17b)上设置有第二浸没液体(13b)，所述物朝向表面(17b)包括用于成像光进入到所述终端元件(17)中的第一表面部分 (18)，所述像朝向表面(17a)包括用于成像光从所述终端元件(17)出射的第二表面部分 (22)，所述第一浸没液体(13a)和所述第二浸没液体(13b)包括不同的成分。
25.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述第二浸没液体(13b)在所述光学 终端元件(17)形成为厚度最大为2mm、尤其是最大1mm、优选最大0. 5mm的层。
26.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述终端元件(17)设置在所述投射 物镜处，并且是可更换和/或可移除的。
27.如前述权利要求之一所述的投射物镜，其中，所述用于防止干涉和/或散射辐射通 过的装置包括屏障。
全文摘要
用于微光刻的投射物镜的组件11包括若干光学元件和光阑14。组件11位于朝向像的最后光学元件之前的光学元件是平凸透镜12，该平凸透镜的凸表面2b朝向物，其平表面2a朝向像。作为组件11的朝向像的最后光学元件，提供了光学终端元件17，其包括平板19。透镜12的平表面2b与光学终端元件17的平板19之间，即平板的物朝向表面处，以及终端元件17的平板的像朝向表面上，提供了相应的浸没液体13b或13a。因此，平板两侧与浸没液体13a和13b接触。通过这种构造，确保设置在像朝向侧上的浸没液体13a中的污染物不会影响平凸透镜12。不过，一旦终端元件17或终端元件17的平板19的成像性能由于污染或其它损害而变得不足时，可以容易地将其更换掉。
文档编号G03F7/20GK101815969SQ200880109827
公开日2010年8月25日 申请日期2008年9月25日 优先权日2007年10月2日
发明者海科·费尔德曼, 约琴·赫茨勒, 赫尔穆特·贝耶尔, 迈克尔·托特泽克 申请人:卡尔蔡司Smt股份公司