专利名称:感光性树脂组合物及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
技术领域:
本发明涉及感光性树脂组合物及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及 印刷电路板的制造方法。
背景技术:
以往,在印刷电路板的制造领域,作为用于蚀刻或镀覆等的抗蚀剂材料,广泛使用 感光性树脂组合物、将其层压到支撑体上并用保护膜被覆的感光性元件。
在使用感光性元件制造印刷电路板时,首先,将感光性元件层压到铜基板等电路 形成用基板上,通过掩模膜(mask film)等进行图形曝光之后,用显影液将感光性元件的未 曝光部除去,从而形成抗蚀剂图形。接着,以该抗蚀剂图形为掩模,对形成有抗蚀剂图形的 电路形成用基板实施蚀刻或镀覆处理,形成电路图形,最终将感光性元件的固化部分从基 板剥离除去。
在这样的印刷电路板制造方法中,近年,不通过掩模膜而使用数字数据直接将活 性光线呈图像状地照射的激光直接描绘法正在被实用化。作为用于直接描绘法的光源,出 于安全性和处理性等方面的考虑,使用YAG激光或半导体激光等,最近也提出了使用长寿 命、高输出的氮化镓系蓝色激光等的技术。
进而,近几年,伴随印刷电路板的高精细化、高密度化,采用能形成比以往更精细 的图形的被称作DLP(Digital Light Processing)曝光法的直接描绘法。一般来说,在DLP 曝光法中使用以蓝紫色半导体激光作为光源的波长39(T430nm的活性光线。此外,也可使 用主要可应对通用印刷电路板中的少量多品种的、采用了以YAG激光为光源的波长355nm 的多面镜多光束(polygon mult1-beam)的曝光法。因此为了应对各波长,正在研究感光性 树脂组合物中的各种敏化剂(例如,参考专利文献1、2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2004-301996号公报
专利文献2 :日本特开2005-107191号公报发明内容
发明要解决的问题
但是,使激光高速移动而曝光的直接描绘法与使用碳弧灯、汞蒸气弧灯、超高压汞 灯、高压汞灯及氙灯等有效放射紫外线的光源而一并曝光的以往的曝光方法相比,每光斑
通式(II)中,R2表示可具有取代基的芳基。
本发明的感光性树脂组合物,由于具有上述构成,因而光敏感度及析像度优良。此 外,根据本发明的感光性树脂组合物,即便在使用直接描绘法时也可形成具有良好抗蚀剂 形状的抗蚀剂图形。抗蚀剂形状良好的抗蚀剂图形在蚀刻或镀覆处理后不产生断线、短路 这样的不良情况,对于形成具有高精细化及高密度化的精细图形的印刷电路板是有效的。2
通式(I )中,R1表示碳原子数2 20的亚烷基、碳原子数2 20的氧杂: 碳原子数2 20的硫代二亚烷基,:亚烷基或的曝光能量小,生产效率低。因此,在直接描绘法中,要求更高敏感度的感光性树脂组合物。
但是,如果为了提高光敏感度,增加感光性树脂组合物中所含有的光引发剂或敏 化剂的量的话,由于在感光性树脂组合物层上部局部地进行光反应,底部的固化性降低,因 此引起光固化后所得的析像度的降低及抗蚀剂形状的恶化(倒梯形)。伴随抗蚀剂图形的高 析像化、高密度化,抗蚀剂形状的问题深刻化,由于抗蚀剂形状为倒梯形,因而在蚀刻或镀 覆处理后可能产生断线、短路这样的不良情况。在这样的以往的感光性树脂组合物中,难以 充分地实现所要求的光敏感度、析像度及抗蚀剂形状。
本发明是鉴于上述问题而完成的,本发明的目的在于提供一种光敏感度及析像度 优良,且即便在使用直接描绘法时也可形成具有良好抗蚀剂形状的抗蚀剂图形的感光性树 脂组合物,及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。
解决问题的方案
本发明提供一种感光性树脂组合物,其含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有至少一个 乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和(C)光聚合引发剂,上述(C)光聚合引发剂含有下述 通式(I )表示的化合物及下述通式(II)表示的化合物
HYfiw
上述(C)光聚合引发剂,优选进一步含有下式(III)表示的化合物。由此,本发明的 感光性树脂组合物的光敏感度及析像度更加优良,可适用于使用直接描绘法的抗蚀剂图形 的形成。
此外本发明提供一种具有支撑体及在该支撑体上形成的由所述感光性树脂组合 物构成的感光性树脂组合物层的感光性元件。根据本发明的感光性元件,可在基板等上容 易地层压感光性树脂组合物层。此外,本发明的感光性元件的光敏感度及析像度优良,使用 该感光性元件形成的抗蚀剂图形的抗蚀剂形状良好。
此外本发明提供一种抗蚀剂图形的形成方法,其包含对形成于电路形成用基板 上的由上述感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线,使曝 光部光固化的照射工序;从上述基板上除去上述感光性树脂组合物层的规定部分以外的部 分的除去工序。根据本发明的形成方法而形成的抗蚀剂图形由于使用了上述本发明的感光 性树脂组合物,因此具有良好的抗蚀剂形状。
此外本发明提供一种抗蚀剂图形的形成方法,其包含对形成于电路形成用基板 上的由上述感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层的规定部分,通过直接描绘法将 活性光线呈图像状地照射,使曝光部光固化的照射工序;从上述基板上除去上述感光性树 脂组合物层的规定部分以外的部分的除去工序。本发明的形成方法通过在上述照射工序中 采用直接描绘法作为照射方法,可容易地形成高精细、高密度的抗蚀剂图形。此外,根据本 发明的形成方法,由于使用了上述本发明的感光性树脂组合物,因此即便是在通过直接描 绘法照射活性光线时,也可得到抗蚀剂形状良好的抗蚀剂图形。
进一步地,本发明提供一种印刷电路板的制造方法,其对通过上述的抗蚀剂图形 的形成方法而形成有抗蚀剂图形的电路形成用基板进行蚀刻或镀覆。根据这样的制造方 法,可生产效率良好地得到高精细、高密度的印刷电路板。
发明效果
根据本发明,可提供一种光敏感度及析像度优良,且即便是使用直接描绘法时也 可形成具有良好抗蚀剂形状的抗蚀剂图形的感光性树脂组合物,及使用其的感光性元件、 抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。
图1为表不本发明的感光性兀件的一个适宜实施方式的模式剖视图。
具体实施方式
以下,对本发明的实施方式进行详细说明。这里,在本发明中,(甲基)丙烯酸表示 丙烯酸或甲基丙烯酸,(甲基)丙烯酸酯的意思是丙烯酸酯或与其对应的甲基丙烯酸酯,(甲 基)丙烯酰基意思是丙烯酰基或与其对应的甲基丙烯酰基。
(感光性树脂组合物)
首先,对本实施方式涉及的感光性树脂组合物进行说明。本实施方式涉及的感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物(以下,有时称作“(A)成分”。)、(B)具有至少一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物(以下,有时称作“(B)成分”。)和(C)光聚合引发剂(以下,有时称作“(C)成分”。)。
作为(A)成分,可列举出丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、环氧系树脂、酰胺系树脂、 酰胺环氧系树脂、醇酸系树脂、酚系树脂等,这些可单独或组合两种以上而使用。对于(A)成分而言,为了使感光性树脂组合物的碱显影性良好,优选为丙烯酸系树脂。
(A)成分可通过例如使聚合性单体发生自由基聚合而制造。作为上述聚合性单体, 可列举出苯乙烯,乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等α位或芳香族环具有取代基的可聚合的苯乙烯衍生物,双丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺,丙烯腈,乙烯基正丁基醚等乙烯醇的酯类,(甲基)丙烯酸烷基酯,(甲基)丙烯酸环烷基酯,(甲基)丙烯酸二环戊酯,(甲基)丙烯酸金刚烷基酯,(甲基)丙烯酸苯甲基酯,(甲基)丙烯酸四氢糠基酯,(甲基)丙烯酸糠基酯,(甲基)丙烯酸二甲氨基乙基酯,(甲基)丙烯酸二乙氨基乙基酯,(甲基)丙烯酸缩水甘油酯,2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯,2,2,3,3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯,(甲基)丙烯酸,α -溴代(甲基)丙烯酸,α-氯代(甲基)丙烯酸,β-呋喃基(甲基)丙烯酸,β_苯乙烯基(甲基)丙烯酸,马来酸,马来酸酐,马来酸单甲酯、马来酸单乙酯、马来酸单异丙酯等马来酸单酯,富马酸,肉桂酸,α-氰基肉桂酸,衣康酸,巴豆酸,丙炔酸等。这些可单独或组合两种以上而使用。
作为上述(甲 基)丙烯酸烷基酯,可以列举出例如下述通式(IV)表示的化合物
H2C = C(R3)-COOR4 (IV)。
上述通式(IV)中,R3表示氢原子或甲基,R4表示可具有取代基的碳原子数广12的烷基。此处作为取代基,可列举出羟基、环氧基、卤素基团等。此外,作为R4表示的碳原子数广12的烷基,可为直链状或支链状,可以列举出例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、 庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基以及这些的结构异构体。
作为上述通式(IV)表示的聚合性单体,可以列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、 (甲基)丙烯酸十二烷基酯等。这些可单独或组合两种以上而使用。
此外,为了提高感光性树脂组合物的碱显影性,(A)成分优选为具有羧基的粘合剂聚合物(以下,有时称作“含有羧基的聚合物”。)。含有羧基的聚合物例如可通过使具有羧基的聚合性单体与其他的聚合性单体发生自由基聚合而制造。作为上述的具有羧基的聚合性单体,优选(甲基)丙烯酸,其中更优选甲基丙烯酸。
对于含有羧基的聚合物而言,源自具有羧基的聚合性单体的重复单元的含量(以下,称作“羧基含有率”。),以含有羧基的聚合物的总量为基准,优选为12 50质量%,更优选 12^40质量%,更加优选15 30质量%,尤其优选15 25质量%。含有这样的含有羧基的聚合物的感光性树脂组合物,碱显影性更加优良并且固化后的耐碱性良好。如羧基含有率不足 12质量%则存在碱显影性差的倾向,如果超过50质量%则存在耐碱性差的倾向。
此外,为了提高由感光性树脂组合物构成的感光性树脂组合物层对基板等的密合性及剥离特性,(A)成分优选为含有苯乙烯或苯乙烯衍生物作为聚合性单体单元的粘合剂聚合物。
源自苯乙烯或苯乙烯衍生物的重复单元的含量,以粘合剂聚合物的总量为基准, 优选为O. Γ30质量%,更优选广28质量%,更加优选1. 5^27质量%。如含量不足O.1质量%则存在密合性差的倾向,如果超过30质量%,则存在剥离片变大、剥离时间变长的倾向。
(A)成分的重均分子量优选为2000(Γ300000,更优选3000(Tl50000,更加优选 40000 120000,尤其优选50000 110000。如果(A)成分的重均分子量在上述范围内,则感光性树脂组合物的碱显影性及光固化物的机械强度更良好。如果(A)成分的重均分子量不足 20000,则存在感光性树脂组合物的固化物的耐显影液性降低的倾向,如果超过300000,则存在显影所需时间变长的倾向。这里,本发明的重均分子量为由凝胶渗透色谱法测定、通过使用标准聚苯乙烯而做成的标准曲线进行换算而得到的值。
作为(A)成分,可单独使用上述粘合剂聚合物或将它们两种以上组合使用。作为两种以上的组合,可列举出不同共聚成分构成的两种以上的粘合剂聚合物的组合,不同重均分子量的两种以上的粘合剂聚合物的组合,不同分散度的两种以上的粘合剂聚合物的组人坐 I=I 寸 O
(B)成分为具有至少一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物。作为(B)成分,可列举出多元醇与α,β-不饱和羧酸反应而得到的化合物,双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物, 含有缩水甘油基的化合物与α,不饱和羧酸反应而得到的化合物,氨基甲酸酯单体(例如,具有氨基甲酸酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物),壬基苯氧基聚亚烷基氧(甲基)丙烯酸酯, Y-氯-β_轻丙基_β’_ (甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯,β_羟乙基_β '-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯、羟丙基_β’_ (甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯、(甲基)丙烯酸烷基酯等。这些可单独或组合两种以上而使用。
作为上述多元醇与α,不饱和羧酸反应而得到的化合物,可以列举出亚乙基数为2 14的二(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯,亚丙基数为2 14的二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯, 亚乙基数为2 14、亚丙基数为2 14 二(甲基)丙烯酸聚乙二醇聚丙二醇酯,亚丙基数为2 14 的二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯,三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯,三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯,三羟甲基丙烷 乙氧基三(甲基)丙烯酸酯,三羟甲基丙烷二乙氧基三(甲基)丙烯酸酯,三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯,三羟甲基丙烷聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯, 三羟甲基丙烷聚乙氧基聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯,三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯,四(甲基) 丙烯酸季戊四醇酯,季戊四醇聚乙氧基四(甲基)丙烯酸酯,二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯, 二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。这些可单独或组合两种以上而使用。
为了使感光性树脂的光敏感度及析像度更加优良,(B )成分优选含有双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为上述双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物,可列举出2,2_双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双 (4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷等。
作为上述2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷,可以列举出2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基三乙氧基) 苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基) 丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六乙氧基)苯基)丙烷、 2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基七乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基八乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基九乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十一乙氧基)苯基) 丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十三乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十四乙氧基)苯基)丙烷、 2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十六乙氧基)苯基)丙烷等。这里,2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷可以作为BPE-500 (新中村化学工业株式会社制,商品名)或FA-321M (日立化成工业株式会社制,商品名)而商购得到,2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十五乙氧基)苯基)丙烷可以作为BPE-1300 (新中村化学工业株式会社制,商品名)而商购得到。这些可单独或组合两种以上而使用。
作为上述2,2_双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷,可列举出2,2-双 (4-((甲基)丙烯酰氧基二丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基三丙氧基) 苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基五丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双 (4-((甲基)丙烯酰氧基七丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基八丙氧基) 苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基九丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十一丙氧基)苯基)丙烷、 2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十二丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十三丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双 (4-((甲基)丙烯酰氧基十五丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基十六丙氧基)苯基)丙烷等。这些可单独或组合两种以上而使用。
作为上述2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷,可以列举出2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基二乙氧基八丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基) 丙烯酰氧基四乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基六乙氧基六丙氧基)苯基)丙烷等。这些可单独或组合两种以上而使用。
为了更加提高感光性树脂组合物的光敏感度及析像度,(B)成分优选含有2,2-双 (4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷,更优选含有2,2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基五乙氧基)苯基)丙烷(例如,日立化成工业株式会社制,商品名“FA-321M”)。
在(B)成分含有双酚A系(甲基)丙烯酸酯化合物时,其含量相对于(A)成分及(B) 成分的总量100质量份,优选为1(Γ50质量份,更优选15 40质量份。如果双酚A系(甲基) 丙烯酸酯化合物的含量在上述范围内,则可平衡性良好地提高感光性树脂组合物的光敏`感度及析像度。
为了提高感光性树脂组合物的固化膜的可挠性及盖孔(tenting)性,(B)成分优选含有氨基甲酸酯单体。这里,氨基甲酸酯单体表示具有至少一个乙烯性不饱和键和至少一个氨基甲酸酯键的光聚合性化合物。
上述通式(VI)中,R7表示氢原子或甲基,X表示亚乙基或亚丙基,m表示广14的整数,m个存在的X可彼此相同或不同。这里亚丙基包含1-甲基亚乙基及2-甲基亚乙基。
作为上述通式(V)表示的化合物,作为市售品,可列举出UA-21 (为上述通式(V) 中R7为甲基、X为亚乙基、m为4 (平均值)、R5为六甲撑基团的化合物,新中村化学工业株式会社商品名)、UA-41 (为上述通式(V)中R7为甲基、X为亚丙基、m为5 (平均值)、R5为六甲撑基团的化合物,新中村化学工业株式会社商品名)、UA-42 (为上述通式(V)中R7为甲基、X为亚丙基、m为9 (平均值)、R5为六甲撑基团的化合物,新中村化学工业株式会社商品名)、UA-44 (为上述通式(V)中R7为氢原子、X为亚丙基、m为6 (平均值)、R5为六甲撑基团的化合物,新中村化学工业株式会社商品名)等。这些可单独或组合两种以上而使用。
在上述通式(V)中,R5优选为碳原子数f 12的亚烷基。此外,在上述通式(VI)中, X优选为亚乙基。含有这样的(B)成分的感光性树脂组合物的固化物的可挠性及盖孔性更加优良。
(B)成分含有上述通式(V)表示的化合物时,该化合物的含量相对于(A)成分及 (B)成分的总量100质量份,优选为5 25质量份,更优选为7 15质量份。如果上述通式(V)
作为氨基甲酸酯单体,可以列举出β位具有羟基的(甲基)丙烯酸单体与异佛尔酮二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯、1,6-六甲撑二异氰酸酯等二异氰酸酯化合物的加成反应产物,下述通式(V)表示的化合物,EO改性的氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯,Ε0,PO改性的氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯等。这里,EO表示环氧乙烷,EO 改性的化合物具有环氧乙烷基的嵌段结构。此外,PO表示环氧丙烷,PO改性的化合物具有环氧丙烷基的嵌段结构。作为EO改性的氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯,可以列举出例如新中村化学工业株式会社制的UA-1l (商品名)。此外,作为Ε0、PO改性的氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯,可以列举出例如新中村化学工业株式会社制的UA-13 (商品名)。(B)成分优选含有下述通式(V)表示的化合物作为氨基甲酸酯单体。
权利要求
1.一种感光性树脂组合物,其特征在于,含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有至少一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和(C)光聚合引发剂,所述(C)光聚合引发剂含有下述通式(I )表示的化合物及下述通式(II)表示的化合物,
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述(C)光聚合引发剂进一步含有下式(III)表示的化合物,
3.—种感光性元件,其特征在于,具有支撑体和在该支撑体上形成的包含权利要求1 或2所述的感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层。
4.一种抗蚀剂图形的形成方法,其特征在于,包含对形成于电路形成用基板上的包含权利要求1或2所述的感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线,使曝光部光固化的照射工序;从所述基板上除去所述感光性树脂组合物层的规定部分以外的部分的除去工序。
5.一种抗蚀剂图形的形成方法,其特征在于,包含对形成于电路形成用基板上的包含权利要求1或2所述的感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层的规定部分,通过直接描绘法将活性光线呈图像状地照射,使曝光部光固化的照射工序;从所述基板上除去所述感光性树脂组合物层的规定部分以外的部分的除去工序。
6.一种印刷电路板的制造方法,其特征在于,对通过权利要求4或5所述的抗蚀剂图形的形成方法而形成有抗蚀剂图形的电路形成用基板进行蚀刻或镀覆。
全文摘要
本发明涉及感光性树脂组合物及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。本发明提供一种感光性树脂组合物,含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有至少一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂,上述(C)光聚合物引发剂含有通式(Ⅰ)表示的化合物及通式(Ⅱ)表示的化合物。
文档编号G03F7/09GK103064250SQ20131001148
公开日2013年4月24日 申请日期2009年6月16日 优先权日2008年6月18日
发明者矶纯一, 味冈芳树, 石充 申请人:日立化成工业株式会社
感光性树脂组合物及使用其的感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法及印刷电路板的制造方法
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