光学元件的制造方法

专利名称：光学元件的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种光学元件的制造方法，其包含对长尺寸定向基板薄膜表面进行摩擦处理的工序。特别涉及一种包含摩擦辊表面摩擦布调整工序的光学元件的制造方法。
背景技术：
在液晶显示装置等的制造中，通常使用将塑料薄膜表面单向摩擦处理过的基板薄膜。基板薄膜被广泛用于液晶元件中液晶分子的定向处理(例如，参照专利文献1)。另外，将在基板薄膜上形成有液晶性高分子层的物质直接或者将该液晶性高分子层转印到透光性基板薄膜上，来制造视角改良板、相位差板、色补偿板等光学元件的方法已被公知(例如，参照专利文献2)。这样的塑料薄膜加工使用高度洁净的原料薄膜，在净化车间内进行，然而在摩擦工序中由于表面被切削而产生切削屑，还产生摩擦布的纤维绒毛。这些切削屑和绒毛附着在薄膜上。这些切削屑和绒毛是数十μm～数百μm的细微粒，在附着了这些物质的薄膜表面涂敷液晶性高分子时，就会出现几mm的涂敷斑点。另外，附着了这些粒子的薄膜被送到下道工序前，一旦被牢固地卷成薄膜卷，由于卷张力，薄膜层间的粒子就会使薄膜变形，其大小达到几mm，而且从薄膜卷展开薄膜时，每个卷周期都出现缺陷。这些缺陷使产品的合格率下降。另外，当长时间连续进行摩擦处理时，则摩擦布毛形状产生混乱，不能得到均一的定向，这个地方就成为光学上的缺陷。
因此，进行一定时间摩擦处理后，要更换摩擦辊。为了在玻璃基板上形成定向膜而进行摩擦处理时，对于1片或一定数量的基板进行摩擦处理后可以更换，然而，对于移动长尺寸薄膜进行摩擦处理的方法，在更换摩擦辊时，必须停止长尺寸薄膜的移动并重新启动，产生时间及薄膜的浪费。另外，频繁更换是不经济的。迄今为止，作为摩擦辊的清扫方法曾提出一种装置，其设置有摩擦辊毛平整装置和吸引纤维屑装置(专利文献3)，及一种方法，其从摩擦辊的内部通过摩擦布吹出压缩空气，使纤维立起，并且除去附着在纤维上的摩擦屑(参照专利文献4)，等。
特开平6-110059号公报[专利文献2]特开平7-113993号公报[专利文献3]特开平5-34694号公报(权利要求、附图)[专利文献4]特开2002-196335号公报(权利要求、附图)发明内容然而，在专利文献3的方法中，因为使摩擦布的纤维(摩擦毛)和毛平整装置接触，所以难免对毛尖有影响，还有在专利文献4的方法中，必须对摩擦辊自身加工，这是不经济的。本发明是以解决这些问题为目的的，提供一种光学元件的制造方法，其在长尺寸移动的定向基板薄膜提供一种摩擦处理中，通过清扫摩擦辊制造具有优良光学特性的光学元件。
本发明的第1方面涉及一种光学元件的制造方法，其包含对长尺寸定向基板薄膜表面进行摩擦处理的工序，其特征在于，在进行该摩擦处理的摩擦辊表面，用空气喷射装置喷射可以变动的空气，进行摩擦布的调整。
本发明的第2方面涉及在如本发明第1方面所述的光学元件的制造方法中，其特征在于，通过空气喷射装置，依靠旋转或振动发生上述可变动空气。
本发明的第3方面涉及一种如本发明第1方面所述的光学元件的制造方法，其特征在于，上述可变动的空气附加了超声波振动。
本发明的第4方面涉及如本发明第1～3中任一方面所述的光学元件的制造方法，其特征在于，上述可变动的空气的喷射方向是相对摩擦辊的中心轴方向以及与该中心轴成45度以内角度的方向。
本发明的第5方面涉及如本发明第1～4中任一方面所述的光学元件的制造方法，其特征在于，向前述可变动的空气对空气喷射装置的供给压力是0.2～0.7Mpa。
本发明的第6方面涉及如本发明第1方面所述的光学元件的制造方法，其特征在于，上述可变动空气中使用离子化空气。
本发明的第7方面涉及该摩擦辊表面摩擦布的调整方法，其特征在于，利用空气喷射装置，向对长尺寸定向基板薄膜表面进行摩擦处理的摩擦辊表面，喷射可以变动的空气。
本发明的第8涉及如本发明第7方面所述的摩擦布的调整方法，其特征在于，通过空气喷射手段，依靠旋转或振动发生上述可变动空气。
本发明的第9涉及如本发明第7方面所述的摩擦布的调整方法，其特征在于，上述可变动空气附加了超声波振动。
本发明的第10涉及如本发明第7～第9中任一方面所述摩擦布的调整方法，其特征在于，上述可变动的空气的喷射方向是摩擦辊的中心轴方向以及与该中心轴成45度以内角度的方向。
本发明的第11涉及如本发明第7～第10任一方面所述的摩擦布的调整方法，其特征在于，前述可变动空气对空气喷射装置提供的供给压力是0.2～0.7Mpa。
本发明的第12涉及如本发明第7方面所述的摩擦布调整方法，其特征在于，对上述可变动空气使用离子化空气。
使用本发明的方法时，可以去除附着在摩擦布上的切削屑和绒毛等粉尘，也可以整理摩擦布的毛形状，进行摩擦布的调整，所以降低摩擦布的更换频率，进行长尺寸薄膜基板的摩擦处理，可以得到无光学缺陷的光学元件。另外，在摩擦处理中，可以通过在线进行诸如摩擦布的清扫和/或摩擦布毛平整这样的摩擦布的调整。用本发明的方法得到的定向基板薄膜，其没有粉尘附着、定向均匀、没有定向缺陷，可以得到优质的光学元件。


图1是表示长尺寸基板定向薄膜摩擦状态的模式图。
图2是表示实施本发明方法的装置的一例的模式图。
图3是表示实施本发明方法的装置的另一例的模式图。
图4是表示实施本发明方法的装置的另一例的模式图。
具体实施例方式
图1示意性表示了一边移动长尺寸基板薄膜一边摩擦时的情况。图中1是长尺寸基板薄膜，2是摩擦辊。薄膜1可以使用各种材料，例如涂敷液晶性高分子作为定向用基板的高分子薄膜、其它光学元件用薄膜、薄片或磁带用基材薄膜等。最适合的是定向基板用薄膜。定向基板用长尺寸薄膜可以使用由高分子材料构成的材料、高分子材料与其它材料(例如，铜、不锈钢、钢等金属箔)形成的多层构造中的任一种。也可以将定向基板用薄膜自身作成铜、不锈钢、钢等的金属箔。
这个材料优选高分子材料，热固性树脂或热塑性树脂都可以使用。例如，聚酰亚胺树脂、环氧树脂、苯酚树脂等热固性树脂；尼龙等聚酰胺；聚醚亚胺；聚醚酮；聚醚醚酮(PEEK)；聚酮；聚醚砜；聚亚苯硫醚；聚苯醚；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯；聚缩醛；聚碳酸酯；聚(甲基)丙烯酸甲酯；三乙酰纤维素等纤维素类树脂；聚乙烯醇等热塑性树脂。在定向基板上定向膜形成液晶性高分子膜时，需要加热的情况下，这时要考虑耐热性，则更优选由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚亚苯硫醚、PEEK、聚乙烯醇等热塑性树脂构成的材料。这些不用顾虑由于加热而消减或减少摩擦处理的效果。
上述薄膜可以将其表面摩擦而作为定向基板薄膜使用，也可以在薄膜表面形成定向膜，将该定向膜摩擦而作为定向基板使用。在薄膜表面形成定向膜的材料可以使用各种材料，优选高分子化合物。例如，聚酰亚胺、烷基链改性类聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚甲基丙烯酸甲酯等。另外，用无机物的定向膜，有SiO斜蒸镀膜等无机物斜蒸镀膜。聚酰亚胺场合优选涂敷多元酸后，以100℃至300℃加热而使之固化。
长尺寸定向基板薄膜或其基体薄膜可以用以前众所周知的适宜的方法制造。由热塑性树脂构成的长尺寸薄膜，用通常的T模挤压法等成形方法可以容易地得到。长尺寸薄膜的厚度可以适当选择，例如，可以采用10μm～10mm的范围。宽度也适宜，通常选择1～500cm的范围。
另外，热塑性树脂薄膜的场合，在不妨碍摩擦处理的效果范围，用公知的方法可以得到在1轴方向(优选MD方向)或2轴方向被适当拉伸的薄膜。
摩擦辊2在其外圆周面设置了摩擦布等摩擦材料3。摩擦材料的材料及形状依据被摩擦处理的薄膜表面的材料适当选择。一般可以用使用了人造纤维、尼龙、棉等纤维的摩擦布。在摩擦布表面起毛有摩擦毛4。摩擦辊可以在其转动轴与薄膜运送方向成直角～倾斜角之间旋转。倾斜角度优选例如0°至45°。摩擦辊2相对薄膜运送的方向同向或反向旋转，连续地摩擦处理薄膜表面。摩擦处理条件依据光学元件的要求性能和薄膜表面的材料种类等设定适当的范围，通常以0.5～100m/分、优选1～30m/分的运送速度移动薄膜，摩擦辊的旋转圆周速度作为线速比选择1～1000，优选5～200的范围。摩擦压力可以是摩擦材料稍稍与薄膜接触的程度。为了消除摩擦不均和清除附着在薄膜表面的粉尘，也可以设置多个摩擦辊。另外，在摩擦处理前后可以适当地设置静电去除装置等。
摩擦辊表面摩擦布的调整即摩擦布的清扫及毛平整，依据摩擦完成产品的检查或摩擦处理工序中的监测，在产品的缺陷或微粒的检测量超过规定值时或超过规定的处理时间时进行。如果例举在线监测的方法，在图1中依据用5表示的微粒检测装置，监视由摩擦处理发生的粉尘等微粒。作为微粒的检测装置，可以使用粒子计数器、图像处理装置(CCD照相机等)等。
所谓摩擦布的调整，是指包含摩擦布的清扫及毛平整的处理。摩擦布的调整在摩擦辊表面的摩擦布上喷射可以变动的空气来进行。此时，所谓可以变动的空气，是指冲击到摩擦辊的空气流的位置、方向、压力、流速等是变动的空气流，以及虽然是稳定的空气流，但依靠手动或自动可以使冲击到摩擦辊的空气流的位置、方向等改变的空气流。在变动的空气中，包含了附加脉动波或超声波振动的空气流。
在摩擦辊表面只用送风机或气刀等喷射空气，不能去除附着在靠近摩擦布纤维毛根部的粉尘，不能矫正毛形状。其理由认为是，在被处理物的表面产生空气流速慢的边界层，妨碍了利用气流剥离粉尘，气流侵入纤维毛之间变得困难。与此相反，用可变动的空气时，破坏这样的边界层或阻碍其生成，用气流去除粉尘及矫正纤维毛的毛形状，被认为是可以有效进行的。即所谓可变动空气的变动，只要是达到破坏这样的边界层或阻碍其生成的程度就可以。
喷射可变动空气的装置的一个例子，例如有如下方法将从设置在与空气源相连的软管顶端的空气喷射喷嘴喷射的空气的方向，用手动或自动使之旋转或摇摆，使撞到摩擦布的空气流变动。空气喷射喷嘴设置在空气喷射筒内，可以手动使该空气喷射筒旋转或摇摆。或者，可以使用如下装置空气喷射筒内，在顶端配备了含有空气喷射喷嘴移动自由的软管，依靠从该喷嘴喷出的空气的推力，在该喷射筒内，该喷嘴以高速旋转或左右摇摆，变动的空气被从空气喷射筒喷出。
另外，也可以使用从排气切口喷出赋予了超声波振动的空气的装置。超声波振动可以用超声波发生器，或者通过从喷嘴喷出加压空气时的气穴生成。还有，在这种装置中有的是组合了吸引空气的装置，而且有的是使用了离子化空气。
图2、图3示意性表示了用脱机方式进行摩擦辊清扫的情况。从生产线上将应清扫的摩擦辊2取下，放进清扫室6内。图中7是在喷射口内以空气喷射喷嘴左右摇摆的形式或旋转的形式喷出可变动空气的装置。在摩擦布调整处理时，使摩擦辊与喷出可变动空气的装置相对移动，使其可以对摩擦辊的整面喷射空气。图中未表示，但优选用适当的旋转驱动装置使摩擦辊绕轴旋转。在图3中，表示了这样一种装置，在与摩擦辊轴平行的导轨10上移动喷出可变动的空气的装置，可以在摩擦辊的整个宽度进行清扫及毛平整。图4是用喷出可变动的空气的装置，在线进行摩擦辊的清扫及毛平整的情况的模式图。图中11是覆盖摩擦布调整装置的盖子。在图4中，和图1～3相同编号表示同样的部件、装置。在图2及图4中，8表示过滤器·风扇单元，9表示排气送风机。图中的箭头表示空气的流向。在使用从排气切口喷出超声波振动空气的装置的场合，其剖面与图2及图4是相同的。在这种类型的装置中，如果排气切口的宽度和摩擦辊的宽度相同或超过，则不需要像图3那样用导轨移动。在这些图中未表示，但可以接近摩擦辊设置吸引喷嘴或吸引切口等吸引装置，适当吸引去除从摩擦辊剥离的粉尘。这种场合各种公知的吸引装置都可以作为吸引手段使用。
可变动的空气的喷射方向、喷射压力、流速、流量等处理条件，只要达到阻碍在摩擦辊表面形成空气边界层或破坏边界层的程度就可以，过剩的力加到摩擦毛上会损伤摩擦毛，会导致产生新的缺陷。优选的喷射条件如下。
可变动的空气的喷射方向，依据与摩擦毛方向的关系选择适当的角度。优选摩擦辊的中心轴方向及相对该中心轴45°以内角度的方向。更优选30°以内的角。空气的压力优选0.2～0.7Mpa，更优选0.45～0.65Mpa。流量优选10～1000升/分，流速优选10～20,000m/秒。
喷出上述可变动空气的装置的空气喷出喷嘴和摩擦辊的毛尖优选不接触的程度，其距离优选例如1～100mm左右。
用以上工序进行摩擦处理的薄膜，进一步根据需要，经过除电工序，除尘工序及用水、醇类、醚类和氟化烃等适当的溶剂进行的洗净工序，干燥工序等，得到定向基板薄膜，被加工成光学元件。
作为加工这样得到的定向基板而得到的光学元件，可以列举出在液晶显示器、等离子显示板、EL显示器等各种显示器上设置的各类光学薄膜及基板薄膜等。更具体的例如有可以通过涂敷主链型或侧链型的各种液晶性高分子材料等得到的光功能性薄膜(光学元件)，有效发挥使用的液晶性高分子材料的液晶特性的偏光板、彩色偏光板、相位差板、色补偿薄膜、视角改良薄膜、亮度提高薄膜、防反射薄膜、光学活性薄膜、装饰薄膜等。另外，在得到的光功能性薄膜(光学元件)中例如也可以实施全息加工等附加新的功能。需要说明的是，在此所述的液晶性高分子材料，包含用含有反应性官能基的液晶性低分子，利用光和/或热进行聚合和交联，结果高分子量化的材料。进一步在本发明中，例如，在薄膜摩擦表面涂敷液晶性高分子材料，变为液晶状态的场合，该材料依据摩擦的方向定向，将其硬化或固化使其固定化，可以得到如上所述的各种光功能性薄膜(光学元件)。
上述固定化的方法列如有在液晶状态，从形成的所期望的定向状态急冷，变为玻璃化状态而固定化的方法；使含有反应性官能基的液晶性低分子材料或液晶性高分子材料定向后，使上述官能基反应(固化、交联等)而固定化的方法等。
上述反应性官能基例如有乙烯基、(甲基)丙烯酰基、乙烯氧基、环氧基、氧杂环丁烷基、羧基、羟基、氨基、异氰酸盐基、酸酐基等，用适于每个基的方法进行反应。
另外，在使用显示液晶性的温度高的热致液晶性高分子等的场合，可以摩擦处理耐热性高的基板薄膜，在该薄膜上形成固定化定向状态的液晶层，根据需要将其从该基板剥离，转印到其它透光性基板上，作成光学元件。
作为上述液晶性高分子材料，依据以光学元件为目的的用途和制造方法，不管低分子、高分子，可以从很广的范围选定，但优选使用液晶性高分子物质作为该材料。再者，液晶分子的分子形状不管是棒状还是圆盘状。例如，也可以使用呈现盘状向列型液晶性的盘状液晶物质。
还有，作为上述液晶性高分子材料呈现的液晶相，例如有向列相、扭转向列相、胆留醇型相、混合向列相、混合扭转向列相、盘状向列相、层列相等。
作为上述液晶性高分子物质，可以使用各种主链型液晶物质、侧链型液晶物质或这些物质的混合物。主链型液晶物质例如有聚酯类、聚酰胺类、聚碳酸酯类、聚酰亚胺类、聚氨酯类、聚苯并咪唑类、聚苯并恶唑类、聚苯并噻唑类、聚甲亚胺类、聚酯酰胺类、聚酯碳酸酯类、聚酯酰亚胺类等液晶性高分子物质，或这些物质的混合物等。另外，侧链型液晶物质例如有聚丙烯酸酯类、聚甲基丙烯酸酯类、聚乙烯类、聚硅氧烷类、聚醚类、聚丙二酸酯类、聚酯类等，在具有直链状或环状构造的骨架链的物质中作为侧链键合有内消旋配合基(メソゲン基)的液晶性高分子物质，或这些的混合物。还有，主链型液晶物质、侧链型液晶物质也可以含有上述反应性官能基。在这些物质中，从合成和定向的容易度等考虑，优选主链型液晶物质的聚酯类。
液晶性低分子物质例如有在饱和苯羧酸类、不饱和苯羧酸类、联苯羧酸类、芳香族氧羧酸类、席夫碱型类、二甲亚胺化合物类、偶氮化合物类、氧化偶氮化合物类、环已烷酯化合物类、固醇化合物类等的末端，导入上述反应性官能基的显示液晶性的化合物；以及在上述化合物类中显示液晶性的化合物中添加了交联性化合物的组合物等。另外，盘状液晶化合物例如有三亚苯基环类、三聚茚类等。
进一步，在液晶物质中也可以将含有用光和/或热能够引起聚合和交联反应等的反应的官能基或部位的各种化合物，在不妨碍液晶性显现的范围进行配合。能引起聚合和交联反应的官能基，例如有上述各种反应性官能基等。
将上述液晶性高分子材料向定向基板薄膜展开的方法，例如有将含有上述液晶物质和根据需要添加的各种化合物，根据需要添加的各种光引发剂、增敏剂、添加剂的组合物，在溶融状态涂敷在定向基板薄膜上的方法；及将该组合物的溶液涂敷在定向基板薄膜上的方法等。这样，将涂敷在定向基板薄膜上的涂膜，通过干燥、根据需要进行的热处理(液晶定向)、再进行光照射和/或加热处理(聚合、交联)等上述的固定化定向的方法，固定化定向，依此可以形成上述的光学元件。用光照射固定化定向的条件，因所用液晶物质和组合物的物性不同而变化，不能一概而论，然而通常在后述的粘接剂的光固化条件下就足够。需要说明的是，用光照射固定化时的温度，可以是液晶状态也可以是玻璃化转变温度以下的温度，选定更适合的条件即可。热固定化也和光照射固定化同样与使用的材料相互依存，通常在组合物的玻璃化转变点以上各向同性相温度以下进行，其时间可以适当选择。
上述溶液配制所用溶剂，只要是可以溶解液晶物质和组合物，且在适当条件下可以蒸馏除去的溶剂，就没有特别限制。一般优选使用丙酮、甲基乙基酮、异弗尔酮等酮类；丁氧基乙基醇、己氧基乙基醇、甲氧基-2-丙醇等醚醇类；乙二醇二甲基醚、二乙二醇二甲基醚等乙二醇醚类；醋酸乙酯、醋酸甲氧基丙酯、乳酸乙酯等酯类；苯酚、氯酚等酚类；N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类；氯仿、四氯乙烷、二氯苯等卤化烃类等或这些的混合类。另外，为了在定向基板上形成均匀的涂膜，也可以向溶液中添加界面活性剂、消泡剂、均化剂等。再者，以着色为目的，也可以在不妨碍液晶性显现的范围内添加二色性染料及通常的染料和颜料。
对于涂敷方法，如果是确保涂膜均匀性的方法，则不特别限定可以使用公知的方法。例如有辊涂法、口模式涂布法、浸渍涂层法、幕式涂层法、旋转涂层法等。涂敷后，可以进入用加热器和吹温风等方法将溶剂去除(干燥)的工序。在涂膜的干燥状态的膜厚是0.1μm～50μm，优选0.2μm～20μm。在这个范围外，由于得到的液晶物质层的光学性能不够，液晶物质的定向也不充分等，所以不选用。
接着，如果需要则在利用热处理等形成液晶定向后，进行定向的固定化。热处理是通过加热到液晶相显现温度范围，利用液晶物质本来具有的自身定向能力使液晶定向。作为热处理的条件，由于因所用液晶物质的液晶动态温度(转化温度)不同而导致最适合条件和界限值不同，所以不能一概而论，通常是10～300℃，优选30～250℃的范围。过度低温，有液晶定向不能充分进行的担心，同样，高温有液晶物质分解对定向基板产生恶劣影响的担心。再有，对于热处理时间，通常选用3秒～60分，优选10秒～30分的范围。在热处理时间比3秒短时，有液晶定向不能充分进行的担心，在热处理时间超过60分时，因为生产性极端恶化，任何情况都不选用。液晶物质通过热处理完成液晶定向后，在该状态下，将定向基板薄膜上的液晶性高分子材料，采用适于作为该材料使用的液晶物质的方法进行固定化。
以上，用本发明的方法得到的定向液晶物质层，如果定向的液晶物质层可以独立，则可以单独使用液晶物质层，否则可以将定向基板作为支撑体使用。将定向基板作为支撑体的场合，有时用定向基板不适于液晶物质层的最终用途，这种情况可以转印到其它适当的基板上将定向基板剥离去除。作为转印用的基板，在透过光线的透过型的场合，优选透明且光学性各向同性的玻璃板、石英板或塑料制的薄膜或薄片。这样的塑料，例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚醚砜、非晶态聚烯烃、环戊二烯以及其衍生物等的(加氢)脂环族化合物类聚合物、多芳基化合物、三乙酰纤维素等。这些薄膜或薄片可以实施拉伸处理。其厚度是0.1μm～10mm，优选1μm～2mm范围。
再者，转印用的基板也可以使用偏光板。偏光板在其单面和/或双面可以有保护层，偏光板的贴合面不管有无保护层可以是任何面，得到的层叠体就是所谓的椭圆偏光板。进一步仅仅定向液晶物质层与没有保护层的偏光板直接贴合，也可以成为极其薄膜化的椭圆偏光板。
转印是将上述的转印用基板和液晶物质层通过粘接剂贴合，可以根据需求对该粘接剂实施固化处理，剥离定向基板。
定向基板的剥离方法，可以适当采用例如在定向基板和转印用基板的角部贴上粘胶带而人为剥离的方法；用滚筒等机械剥离的方法，浸渍到相对全部构成材料的贫溶剂后机械剥离的方法；在贫溶剂中采用超声波进行剥离的方法；利用定向基板、转印用基板和定向的液晶物质层的热膨胀系数的差别，给予温度变化使之剥离的方法等。
上述粘接剂的涂敷方法可以选用适当的方法，可以使用的粘接剂也没特别限制，优选用光学各向同性的物质，例如，丙烯酸类、聚氨酯类、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物类、各种橡胶类、反应性的物质等。反应性的物质例如有热固化型、光固化型或电子射线固化型等，优选以丙烯类的单体和低聚体为主要成分的物质，根据需要可以添加各种光聚合引发剂、增敏剂、粘度调整剂等。粘接剂的固化方法由于选用光固化法或电子射线固化法可以在液晶物质层的玻璃化转变点以下的低温下进行固化处理，所以优选使用。
光固化法的场合可以使用公知的固化手段，例如，低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、金属卤化物灯、氙灯等。另外曝光量因所用的反应性粘接剂的种类不同而不同，不能一概而论，但通常选用50～2000mJ/cm2，优选100～1000mJ/cm2。再者，电子射线固化法的场合，依电子射线的透过力和固化力适当选定，不能一概而论，但通常可以在加速电压选用30～1000KV，优选50～500KV的条件下照射而固化。
粘接剂的粘度通常选用1～20,000MPa·S，优选10～10,000MPa·S，粘接剂的厚度因用途和其操作性不同而不同，不能一概而论，但涂敷后粘接剂的厚度通常选用0.1～200μm，优选0.5～50μm。粘度在上述范围外，则难以得到期望的涂敷厚度，操作性也恶化，因此不优选。还有，粘度不符合上述范围时，优选用溶剂和低粘度单体等适当地调整粘度，使其达到期望的粘度范围。
再者，这此粘接剂在不损害其特性的范围内，可以添加以控制光学特性为目的的各种微粒等。上述微粒例如有与构成粘接剂的化合物折射率不同的微粒、不损失透明性而提高防带电性能的导电性微粒、提高耐磨性的微粒等，更具体地可以配合细微的硅石、细微矾土、ITO(铟锡氧化物)微粒、银微粒、各种合成树脂微粒等。更进一步地，在不损害本发明效果的范围内，可以配合抗氧化剂、紫外线吸收剂等各种添加剂。
对于本发明的液晶性高分子，可以单独使用如上所述的液晶性高分子材料，另外，也可以将2种或3种以上的液晶性高分子混合物作为该材料使用。更进一步，在不损害本发明效果的范围内，可以将光学活性的液晶性高分子、液晶性乙烯聚合物、液晶性聚硅氧烷、液晶性环氧树脂等各种液晶性高分子或非液晶性高分子适当混合来用。
实施例对于厚60μm、宽650mm的聚醚醚酮(PEEK)薄膜，用图1所示的装置进行摩擦处理。薄膜的运送速度是30m/分，摩擦辊卷绕了尼龙制的摩擦布，外径为150mm、宽为500mm，将摩擦辊的旋转轴相对薄膜的运送方向90°倾斜，以旋转圆周速度500m/分，进行摩擦处理。摩擦处理进行60分钟后，取下摩擦辊，用图2及图3所示的装置进行摩擦布的调整。作为喷出变动空气的装置使用大浩研株式会社的パタガンPU-200(商品名)及0.4MPa的空气源，以喷射口和摩擦辊表面的距离为40mm，旋转摩擦辊，一边使喷射装置微动往复，一边向摩擦轴喷射空气。设定微动的间距与从空气喷射喷嘴喷射的空气的左右振幅相同，在摩擦辊的整个宽度上喷气。
用这样摩擦布调整好的摩擦辊，重新启动摩擦工序。被摩擦处理的薄膜经过除电、除尘、洗净及干燥的各工序，绕在卷辊上。
清扫摩擦辊后，重新启动摩擦，将在0～15分钟时间段得到的薄膜(实施例)及和实施例同样进行60分钟摩擦处理后，不进行摩擦辊的清扫继续0～15分钟的摩擦处理得到的薄膜(比较例)，用作定向基板薄膜，在该薄膜的摩擦处理面上，用辊涂机涂敷液晶性高分子物质溶液300mm宽度。干燥后在200℃加热处理15分钟，使液晶性高分子定向，接下来冷却至室温，固定化液晶构造(扭转向列的定向构造)。
对于得到的长尺寸液晶性高分子层，观察有无缺陷及缺陷数，用实施例薄膜的未观察到由摩擦产生的缺陷，而且缺陷数平均是5个/m2，其平均大小是50μm。对应另一方比较例的薄膜，看到了缺陷，缺陷数平均是10个/m2，其平均大小是80μm。
用于评价的液晶性高分子溶液按以下所述制造。
将含式(1)的液晶性高分子物质(对数粘度＝0.22dl/g，Tg＝61℃)及式(2)的(R)-3-甲基己烷-1，6-二醇单元的光学活性液晶性高分子物质(对数粘度＝0.17dl/g)合成。
这些高分子材料的合成是在邻二氯苯溶剂中，在三乙胺的共存下，通过使对应二羧酸单元的酸氯化物和二醇化合物反应来进行。
将得到的式(1)的液晶性高分子物质18.1g以及式(2)的液晶性高分子物质1.9g的混合物，溶解在80g的N-甲基吡咯烷酮中，调制成液晶性高分子物质溶液。
化1
化2
在上述化学式中，*记号表示光学活性碳另外，上述的分析法和评价按如下所示进行。
(1)液晶性高分子的对数粘度测定用乌式粘度计，在苯酚/四氯乙烷(60/40重量比)混合溶剂中，在30℃下测定。
(2)定向不均及缺陷检查的观察定向不均的观察用奥林巴斯光学(株)制BH2偏光显微镜进行。
(3)液晶性高分子的组成决定将液晶性聚酯在氘代氯仿溶液中溶解，用400MHz的1H-NMR(日本电子制JNM-GX400)测定，确定组成。
根据本发明，可以得到缺陷少的定向基板薄膜，适于制造高精度的光学元件。另外，本发明的清扫方法因只使用空气，所以适于在环境污染成问题的设施和环境下实施。
权利要求
1.一种光学元件的制造方法，其包含对长尺寸定向基板薄膜表面进行摩擦处理的工序，其特征在于，在进行摩擦处理的摩擦辊表面，用空气喷射装置喷射可变动的空气，进行摩擦布的调整。
2.如权利要求1记载的光学元件的制造方法，其特征在于，通过空气喷射装置，依靠旋转或振动发生所述可变动空气。
3.如权利要求1记载的光学元件的制造方法，其特征在于，所述可变动空气附加了超声波振动。
4.如权利要求1～3中任一项记载的光学元件的制造方法，其特征在于，所述可变动的空气的喷射方向是摩擦辊的中心轴方向以及相对该中心轴成45度以内的角度的方向。
5.如权利要求1～4中任一项记载的光学元件的制造方法，其特征在于，所述可变动的空气对空气喷射装置的供给压力是0.2～0.7Mpa。
6.如权利要求1记载的光学元件的制造方法，其特征在于，所述可变动空气中使用离子化空气。
7.一种摩擦辊表面的摩擦布的调整方法，其特征在于，在对长尺寸定向基板薄膜表面进行摩擦处理的摩擦辊表面，用空气喷射装置喷射可变动的空气。
8.如权利要求7记载的摩擦布的调整方法，其特征在于，通过空气喷射装置，依靠旋转或振动发生所述可变动空气。
9.如权利要求7记载的摩擦布的调整方法，其特征在于，所述可变动空气附加了超声波振动。
10.如权利要求7～9中任一项记载的摩擦布的调整方法，其特征在于，所述可变动的空气的喷射方向是摩擦辊的中心轴方向以及相对该中心轴成45度以内的角度的方向。
11.如权利要求7～10中任一项记载的摩擦布的调整方法，其特征在于，所述可变动的空气对空气喷射装置的供给压力是0.2～0.7Mpa。
12.如权利要求7记载的摩擦布的调整方法，其特征在于，所述可变动空气中使用离子化空气。
全文摘要
本发明提供一种光学元件的制造方法，进行摩擦辊上的摩擦布清扫及毛平整，进行长尺寸基板薄膜的摩擦处理，得到光学元件。对摩擦辊表面喷射可变动的空气，从而除去摩擦辊的摩擦布上附着的摩擦屑等粉尘，并整理摩擦毛的形状。可以得到适合液晶显示装置等的缺陷少的光学元件。
文档编号G02F1/1337GK1837934SQ200610059478
公开日2006年9月27日 申请日期2006年3月14日 优先权日2005年3月14日
发明者清原稔和, 熊谷吉弘, 福田靖 申请人:新日石液晶薄膜株式会社