光源装置以及投影型显示装置的制作方法

专利名称：光源装置以及投影型显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及使用了多个光源灯的光源装置以及投影型显示装置。
背景技术：
提出了如下所述的投影型显示装置为了实现通过投影型显示装置显示的影像的大画面化以及高亮度化，而具有多灯式的光源装置，该光源装置具有多个光源灯。例如，在专利文献I (日本特开2001-359025号公报的段落0013 0018，图I)中提出了如下所述的投影型显示装置用的光源装置其使用配置在光源灯的会聚点附近的棱镜来合成来自相对配置的两个光源灯的光束。另外，在专利文献2(日本特开2005-115094号公报的段落0099 0108，图9、图10A、图10B)中提出了如下所述的结构使用向相互不同方向倾斜配置的两个合成镜，将来自两个光源灯的光束引导到光积分棒(Rod Integrator)的入射端面。 在先技术文献专利文献专利文献I日本特开2001-359025号公报专利文献2日本特开2005-115094号公报

发明内容
发明所要解决的问题但是，在专利文献I记载的装置中，存在如下所述的问题由于使两个光源灯夹着棱镜而相对配置，因此光源灯的损耗光中到达相对光源灯的发光部的光的比例高，光利用效率低下，并且伴随损耗光的入射，光源灯的温度上升，导致光源灯的寿命缩短。另外，在专利文献2记载的装置中，由于各合成镜配置在偏离了与光积分棒的光轴垂直的方向的位置上，因此从各光源灯射出、被各合成镜反射而入射到光积分棒的各光束的入射角变大(其结果，将被两个合成镜反射而入射到光积分棒的两个光束视为一个光束时的聚光角变大)。为了减轻(校正)因为入射到光积分棒的光具有大聚光角而引起的不良影响(光强度均匀化不够)，在光积分棒上具备锥形的部分。但是，在这样的结构中存在如下所述的问题光积分棒内的光线的反射次数产生偏差，光积分棒的出射面中的光强度均匀性(其结果，屏幕上的照度均匀性)劣化。另外，在这样的校正不充分的情况下，存在不能用于屏幕照射的角度成分的光，因此光利用效率降低。因此，本发明是为了解决上述现有技术问题而提出，其目的在于，提供一种光利用效率高、屏幕上的照度均匀性也高、能够延长光源装置的寿命的投影型显示装置。解决问题的手段本发明的光源装置的特征在于，该光源装置具有光强度均匀化部，其具有入射端及出射端，将入射到上述入射端的光束转换为强度分布被均匀化的光束，从上述出射端射出；第I光源部，其射出第I光束；至少一个弯折部，其将从上述第I光源部射出的上述第I光束引导到上述光强度均匀化部的上述入射端；以及第2光源部，其射出朝向上述光强度均匀化部的上述入射端的第2光束，以如下所述方式配置上述第I光源部、上述第2光源部以及上述弯折部从上述第I光源部经由上述弯折部而到达上述光强度均匀化部的上述入射端的上述第I光束的光轴、和从上述第2光源部到达上述光强度均匀化部的上述入射端的上述第2光束的光轴不具有一致的部分，且即将入射到上述光强度均匀化部的上述入射端之前的上述第I光束的光轴、和从上述第2光源单元到达上述光强度均匀化部的上述入射端的上述第2光束的光轴为相互大致平行的方向。发明的效果根据本发明，能够提高光利用效率，还能够提高屏幕上的照度均匀性。


图I是概略地示出本发明实施方式I的投影型显示装置的结构的图。
图2中的(a)是概略地示出比较例中的光强度均匀化元件的入射端的光束分布的图，(b)是概略地示出实施方式I中的光强度均匀化元件的入射端的光束分布的图，(C)是概略地示出实施方式I中的光强度均匀化元件的入射端的光束分布的另一例的图。图3是概略地示出比较例中的弯折镜的配置的图。图4是示出实施方式I的投影型显示装置的要部结构的图。图5是示出计算来自第I光源灯的第I光束的中心光线的偏心量以及来自第2光源灯的第2光束的中心光线的偏心量与光利用效率之间的关系时的结构的说明图。图6是示出来自第I光源灯的第I光束的中心光线的偏心量以及来自第2光源灯的第2光束的中心光线的偏心量与光利用效率之间的关系的计算结果的图。图7是示出图4所示的偏心量d3与光利用效率之间的关系的计算结果的图。图8是示出弯折镜的形状的一例的图。图9是示出弯折镜的形状的另一例的图。图10是概略地示出本发明实施方式2的投影型显示装置的结构的图。图11是概略地示出本发明实施方式3的投影型显示装置的结构的图。图12是概略地示出本发明实施方式4的投影型显示装置的结构的图。图13中的(a)是示出实施方式I的光强度均匀化元件的入射端处的来自第I光源灯的第I光束的分布以及第I光束的中心光线的偏心量的图，(b)是示出光强度均匀化元件的入射端处的来自第2光源灯的第2光束的分布以及第2光束的中心光线的偏心量的图。图14是示出在光强度均匀化元件的入射端具有图13(a)所示的分布的第I光束的代表光线的图。图15是示出在光强度均匀化元件的入射端具有图13(b)所示的分布的第2光束的代表光线的图。图16是示出实施方式I的光强度均匀化元件的入射端处的来自第I光源灯的第I光束的分布以及来自第2光源灯的第2光束的分布的一例的图。图17是示出实施方式I的光强度均匀化元件的入射端处的来自第I光源灯的第I光束的分布以及来自第2光源灯的第2光束的分布的另一例的图。
图18是概念性地示出实施方式I的光强度均匀化元件的入射端处的损耗光的行为的图。图19是示出弯折镜的形状的一例的图。
具体实施例方式实施方式I. 图I是概略地示出本发明的实施方式I的投影型显示装置的结构的图。如图I所示，实施方式I的投影型显示装置具有光源装置10，其射出强度被均匀化的光束；图像显示元件(光阀)61，其根据输入影像信号，对从光源装置10射出的光束L3进行调制而转换为图像光L4;以及投影光学系统62，其将图像光L4放大投影到屏幕63上。虽然在图I中示出了反射型的图像显示元件61，但是图像显示元件61也可以是透射型的图像显示元件。图像显示元件61例如是液晶光阀、数字微镜设备(DMD)等。在背投型的投影型显示装置的情况下，屏幕63是投影型显示装置的一部分。另外，光源装置10、图像显示元件61、投影光学系统62以及屏幕63的配置不限于图示的例子。光源装置10具有作为第I光源单元的第I光源灯11，其是射出第I光束LI的第I光源部；作为第2光源单元的第2光源灯12，其与第I光源灯11平行地配置，是射出第2光束L2的第2光源部；作为光强度均匀化单元的光强度均匀化元件15，其是将入射到入射端15a的光束转换为强度分布被均匀化的光束，并从出射端15b射出的光强度均匀化部；以及中继光学系统13，其将从第I光源灯11射出的第I光束LI引导到入射端15a。在实施方式I中，从第I光源灯11射出的第I光束LI以及从第2光源灯12射出的第2光束L2分别是会聚光束。更准确地讲，第I光束LI中的从第I光源灯11的发光中心射出的第I光束的中心成分，以及第2光束L2中的从第2光源灯12的发光中心射出的第2光束的中心成分分别是会聚光束。这是因为第I光源灯11或第2光源灯12的发光体具有有限的大小，因此从发光中心以外的位置也射出光束，从发光中心以外的位置射出的光束不能严格地会聚到第I光束的中心成分以及第2光束的中心成分所会聚在的会聚点上。从发光中心以外的位置射出的光束也在第I光束的中心成分以及第2光束的中心成分的会聚点的周围具有一定范围地会聚。以如下所述的方式，确定第I光源灯11、第2光源灯12以及中继光学系统13各自的结构，以及第I光源灯11、第2光源灯12以及中继光学系统13相对于光强度均匀化元件15的配置从第I光源灯11经由中继光学系统13而到达光强度均匀化元件15的入射端15a的第I光束LI的光轴llcl、llc2、llc3 ( S卩、第I光束LI的中心光线)、和从第2光源灯12到达光强度均匀化元件15的入射端15a的第2光束L2的光轴12c (即、第2光束L2的中心光线)不具有一致的部分，且即将入射到入射端15a之前的第I光束LI的光轴llc3与第2光束L2的光轴12c大致平行。“大致平行地配置”是指把第I光源灯11、第2光源灯12以及中继光学系统13配置成，第I光源灯11的光轴llc3(即、从第I光源灯11射出的第I光束在光强度均匀化元件15的入射端15a处的中心光线)与第2光源灯12的光轴12c (即、从第2光源灯12射出的第2光束在光强度均匀化元件15的入射端15a处的中心光线)平行或可视为平行。在图I中示出了，以第I光源灯11的第I光轴llc3与光强度均匀化元件15的光轴15c平行、且第2光源灯12的第2光轴12c与光强度均匀化元件15的光轴15c也平行的方式，配置了第I光源灯11、第2光源灯12、中继光学系统13以及光强度均匀化元件15的情况。另夕卜，中继光学系统13具有作为使第I光束LI的光路弯折的弯折部的第I弯折镜13a以及第2弯折镜13d ;以及两个透镜元件13b以及13c。另外，可以代替配置中继光学系统，而把第I光源灯11和第2光源灯12配置成第I光源灯11的光轴Ilcl与第2光源灯12的光轴12c成为直角，用一个弯折镜将第I光束LI引导到光强度均匀化元件15的入射端15a。此时的弯折镜、以及上述的第2弯折镜13d那样最接近光强度均匀化元件15的入射端15a的弯折镜成为最终弯折部。第I光源灯11例如由射出白色光的发光体I la、和设置在该发光体Ila的周围的椭圆面镜Ilb构成。椭圆面镜Ilb反射从与椭圆的第I中心对应的第I焦点射出的光束，会聚到与椭圆的第2中心对应的第2焦点上。发光体Ila配置在椭圆面镜Ilb的第I焦点附近，从该发光体Ila射出的光束被会聚到椭圆面镜Ilb的第2焦点附近。另外，第2光源灯12例如由射出白色光的发光体12a、设置在该发光体12a的周围的椭圆面镜12b构成。 椭圆面镜12b反射从与椭圆的第I中心对应的第I焦点射出的光束，会聚到与椭圆的第2中心对应的第2焦点上。发光体12a配置在椭圆面镜12b的第I焦点附近，从该发光体12a射出的光束被会聚到椭圆面镜12b的第2焦点附近。另外，也可以代替椭圆面镜Ilb以及12b而使用抛物面镜。此时，在通过抛物面镜使从发光体Ila以及12a射出的光束大致平行化之后，通过聚光透镜(未图示)使其会聚即可。另外，也可代替椭圆面镜Ilb以及12b而使用抛物面镜以外的凹面镜。另外，光源灯的数量也可以是3台以上。图I中的第I光束LI概念性地示出了从发光体Ila射出的光束会聚到椭圆面镜Ilb的第I会聚点Fl附近的样子。同样地，第2光束L2概念性地不出了从发光体12a射出的光束会聚到椭圆面镜12b的会聚点F3附近的样子。在实际的光源灯中，由于发光体具有有限的大小而不是理想的点光源，因此光束LI、L2通常不仅包含图I中直线(虚线)所示的会聚到会聚点上的光束成分，还包含许多不会聚到会聚点上的光束(分布在会聚到会聚点上的光束成分的外侧的成分)。关于不会聚到会聚点上的光束，在后述的图14以及图15中有所示出。另外，在实施方式I的投影型显示装置中，以第I光束LI的第I会聚点Fl比第I弯折镜13a更靠光强度均匀化元件15侧的方式，配置第I光源灯11和第I弯折镜13a。另外，把透镜元件13b、透镜元件13c、第2弯折镜13d以及光强度均匀化元件15配置为，在第I会聚点Fl处会聚的第I光束LI通过透镜13b、透镜13c以及第2弯折镜13d，使得第2会聚点F2 (最终会聚点)位于强度均匀化元件15的入射端15a附近。通过椭圆面镜12b会聚的第2光束L2不特别通过光学元件而直接会聚到光强度均匀化元件15的入射端15a附近的会聚点F3上。另外，在实施方式I的投影型显示装置中，在第I光束LI的中心光线(即、光轴llc3)(在实施方式I中，与光轴Ilc3平行且与光强度均匀化元件15的光轴15c平行)入射到入射端15a的第I入射位置、和第2光束L2的中心光线(即、光轴12c)(在实施方式I中，与光强度均匀化元件15的光轴15c平行)入射到入射端15a的第2入射位置，是相互不同的位置，并且是偏离了光强度均匀化元件15的光轴15c的位置(偏离了后述的偏心量dl、d2的位置)。另外，虽然在图I中将第I会聚点Fl配置为比第I弯折镜13a更靠光强度均匀化元件15侧，但是不限于此。优选把作为最终弯折部的第2弯折镜13d配置为不遮蔽从第2光源灯12朝向入射端15a的第2光束L2的中心光线(与光轴12c —致)的位置。更优选能够配置为不遮蔽所有的第2光束的中心成分的位置。光束的中心成分是指从光源灯的发光中心发出而会聚到会聚点的光束成分。第2弯折镜13d的位于第2光源灯12的光轴12c侧的端部(连接光反射面和其背面的侧面)13e在垂直于光轴15c的方向上的位置，通常是光轴15c上或其附近。但是，例如在第I光源灯11的发光强度比第2光源灯12的发光强度大的情况下，为了提高装置整体的光利用效率，优选构成为端部13e比光轴15c更靠第2光源灯12的光轴12c (第2光束L2的中心光线)侧。相反，例如在第2光源灯12的发光强度比第I光源灯11的发光强度大的情况下，为了提高装置整体的光利用效率，优选构成为端部13e比光轴15c更靠第I光束LI的中心光线(光轴llc3)侦U。第2弯折镜13d遮蔽第2光束L2的程度不仅取决于其位置而且还取决于大小。为了使遮蔽第2光束L2的程度变小，优选使第2弯折镜13d变小。相反，为了使朝向入射端15a的第I光束LI变多，优选使第2弯折镜13d变大。第2弯折镜13d优选具有能够反射 所有第I光束的中心成分的大小的反射面。因此，在该实施方式I中，如图I所示，将能够全部反射第I光束的中心成分的第2弯折镜13d配置在第I光束LI和第2光束L2充分会聚、且所有第2光束的中心成分都不会受到遮蔽的位置上。另外，也可以是第2弯折镜13d不能反射第I光束的中心成分的一部分，或者遮蔽第2光束的中心成分的一部分。光强度均匀化元件15具有使从入射端15a入射的第I光束LI以及第2光束L2在相应光束截面内(即、与光强度均匀化元件15的光轴15c垂直的平面内)的光强度均匀化(即、减少照度不均)的功能。作为光强度均匀化元件15，例如有由玻璃或树脂等的透明材料制成，以侧壁内侧成为全反射面的方式构成的多边形柱状的棒(即、截面形状为多边形的柱状部件)，或以光反射面为内侧结合筒状，截面形状为多边形的管(管状部件)。在光强度均匀化元件15为多棱柱状的棒时，光强度均匀化元件15利用透明材料与空气界面之间的全反射作用，使从入射端入射的光多次反射之后从出射端射出。在光强度均匀化元件15为多边形的管时，光强度均匀化元件15利用朝向内侧的镜的反射作用使从入射端入射的光多次反射之后从出射端(出射口)射出。如果光强度均匀化元件15在光束的前进方向上确保适当的长度，则在内部多次反射后的光重叠照射在光强度均匀化元件15的出射端15b的附近，在光强度均匀化元件15的出射端15b附近，能够得到大致均匀的强度分布。图2 (a)、(b)是概略地示出光强度均匀化元件15的入射端15a处的光束分布的说明图。在图2(a)、(b)中，以高浓度描绘(接近黑色)的范围是光束强(亮)的区域，浓度越低(越接近白色)越是光束弱(暗)的区域。图2(a)示出了使用一个光源灯的比较例的情况中的光强度均匀化元件的入射端的光束分布的一例。图2(a)示出了在入射端15a的中央附近具有光强度的峰值，向周边慢慢变暗的分布。另外，图2(b)示出了使用了两个光源灯的本发明的情况中的光强度均勻化兀件15的入射端15a的光束分布的例子。另外，图2(b)示出了在光强度均匀化元件15的入射端15a处，第I光源灯11的光照射区域和第2光源灯12的光照射区域的一部分在入射端15a处重叠的例子。此处，对在使用了一个光源灯的情况下入射端15a处的光束具有图2(a)所示分布的原因进行说明。在光源灯中的发光体为理想的点光源时，从发光体射出的光束理想地会聚到椭圆面镜的会聚点上。但是，受到发光体具有有限的大小(一般，光轴方向的直径为
O.8mm I. 5mm左右)、或发光体的配置精度和椭圆面镜的形状精度等的影响，会聚光束实际上具有如图2(a)所示的分布。另外，由于会聚光束具有如图2(a)所示的分布，因此不是所有的光束都进入到光强度均匀化元件15的入射端15a，一部分的光束偏离入射端15a，不能用于图像投影。图3是概略地示出比较例中的弯折镜的配置的图。图3示出了以如下方式构成的情况，即配置一个光源灯(未图示)，从光源灯入射到弯折镜113的光束的中心光线(光轴Illc)与光强度均匀化元件115的光轴115c垂直，被弯折镜113反射的光束LI的中心光线与光强度均匀化元件的光轴115c —致。在图3的比较例的情况下，由于能够使弯折镜113的反射面的大小充分地大，因此能够减少来自光源灯的光束LI的损失而进行弯折。图4是示出实施方式I的投影型显示装置的要部结构的图。在图4中示出了第2弯折镜13d以及光强度均匀化元件15。在实施方式I中，以如下所述方式配置各结构来自 中继光学系统13 (图I所示)的第I光束LI的会聚点F2以及第2光源灯12 (图I所示)的椭圆面镜12b的第2焦点(会聚点F3)位于光强度均匀化元件15的入射端15a附近。另夕卜，以如下所述的方式构成来自第I光源灯11的第I光束LI的光轴中的比弯折镜13d更靠光强度均勻化兀件15侧的第I光轴llc3、和来自第2光源灯12的第2光束的第2光轴12c大致平行地配置，并且不具有一致的部分。在使用中继光学系统13使来自第I光源灯11的第I光束LI入射到光强度均匀化元件15的入射端15a，同时使来自第2光源灯12的第2光束L2入射到光强度均匀化元件15的入射端15a的情况下，因为要使第2弯折镜13d尽可能不遮蔽来自第2光源灯12的第2光束L2，所以不能确保充分的大小。因此，在图4所示的结构中，难以避免第I光束LI以及第2光束L2有一定程度的损失。假设使被第2弯折镜13d弯折的第I光束LI的中心光线LlO (光轴13cl)以及第2光束L2的中心光线L20 (光轴12c)与光强度均匀化元件15的光轴15c，则光的损失进一步变大。因此，在实施方式I的投影型显示装置中，被第I弯折镜13弯折的第I光束LI的中心光线LlO相对于光强度均匀化元件15的光轴15c的偏心量dl、以及第2光束L2的中心光线L20相对于光强度均匀化元件15的光轴15c的偏心量d2是比O大的值。图5是示出计算偏心量dl、d2与光利用效率之间的关系时的结构的说明图。如图5所示，例如当构成为来自第I光源灯11的第I光束的中心光线LlO入射到偏心量dl的位置时，由于来自第I光源灯11的第I光束LI会聚到光强度均匀化元件15的入射端15a上偏移了偏心量dl的位置上，因此光强度均匀化元件15的入射端15a处的光利用效率降低。同样地，如图5所示，例如当构成为来自第2光源灯12的第2光束的中心光线L20入射到偏心量d2的位置时，由于来自第2光源灯12的第2光束L2会聚到光强度均匀化元件
15的入射端15a上偏移了偏心量d2的位置上，因此光强度均匀化元件15的入射端15a处的光利用效率降低。图13 (a)示出了实施方式I的光强度均匀化元件15的入射端15a处来自第I光源灯11的第I光束LI的分布以及第I光束LI的中心光线(光轴llc3)的偏心量dl，该图的(b)示出了光强度均匀化元件15的入射端15a处来自第2光源灯12的第2光束L2的分布、以及第2光束L2的中心光线(光轴12c)的偏心量d2。另外，图14示出了在光强度均匀化元件15的入射端15a处具有图13(a)所示分布的第I光束LI的代表光线(不会聚到会聚点F2的光线的例子)Lla，Lib。进而，图15示出了在光强度均匀化元件15的入射端15a处具有图13(b)所示分布的第2光束L2的代表光线(不会聚到会聚点F3的光线的例子)L2a、L2b、L2c、L2d。偏心量dl是从光强度均匀化元件15的光轴15c到第I光束LI的光轴llc3的距离，偏心量d2是从光强度均匀化元件15的光轴15c到第2光束L2的光轴12c的距离。如上所述，由于发光体lla、12a是具有大小的灯，并且由于发光体lla、12a的位置误差、椭圆面镜llb、12b的形状误差以及位置误差等的因素，如图14所示，第I光束LI包含不会聚到会聚点F2的光束成分(例如，光线Lla、Llb)，如图15所示，第2光束L2包含不会聚到会聚点F3的光束成分(例如，光线L2a、L2b、L2c、L2d)。其结果，如图2 (a)、(b)以及图13(a)、(b)所示，来自光源灯的会聚光束在入射端15a处成为具有分布(展宽)的光束。图16示出了实施方式I的光强度均匀化元件15的入射端15a处来自第I光源灯 11的第I光束LI的分布以及来自第2光源灯12的第2光束L2的分布的一例。在图16所示的例子中，入射端15a为具有长边和短边的矩形，入射端15a处的第I光束LI的中心光线llc3的位置(第I入射位置)和第2光束L2的中心光线12c的位置(第2入射位置)在长边方向上，位于以光强度均匀化元件15的光轴15c为基准相互偏向相反侧的位置(偏心量dl、d2的位置)上。另外，在图16所示的例子中，第I入射位置(图16中的光轴llc3的位置)和第2入射位置(图16中的光轴12c的位置)，是通过光强度均匀化元件15的光轴15c且在长边方向上延长的第I基准线HO上的位置。图17示出了实施方式I的光强度均匀化元件15的入射端15a处来自第I光源灯11的第I光束LI的分布以及来自第2光源灯12的第2光束L2的分布的另一例。在图17所示的例子中，入射端15a是具有长边和短边的矩形，入射端15a处的第I光束LI的中心光线llc3的位置(第I入射位置)和第2光束L2的中心光线12c的位置(第2入射位置)是在长边方向上以光强度均匀化元件15的光轴15c为基准相互偏向相反侧的位置(偏心量dl、d2的位置)，且是在短边方向上以光强度均匀化元件15的光轴15c为基准相互偏向相反侧的位置(偏心量vl、v2的位置)。优选基于提高光利用效率且提高屏幕上的照度均匀性的观点来确定是如图16所示使入射到入射端15a的两个光束的位置在长边方向上排列，还是如图7所示在斜向(或对角方向)上排列。图18是概念性地示出实施方式I的光强度均匀化元件15的入射端15a处的损耗光的行为的图。当第I光束LI以及第2光束L2偏移了偏心量dl、d2时，由于会聚光束也在偏移了偏心量dl、d2的位置上会聚，因此不入射到光强度均匀化元件15的入射端15a上的(即、成为不能利用的损耗光)光束进一步增加。另外，在图13(a)以及(b)中，虽然朝向光强度均匀化元件15的入射端15a的方向但不进入到入射端15a上的损耗光被示出为第I光束LI以及第2光束L2的处于入射端15a外侧的部分。图6示出了偏心量dl、d2与光利用效率B之间的关系的仿真计算结果。图6中的仿真是将光强度均匀化元件15的截面形状形成为7mmX4. 5mm的矩形时的计算例。在图6中，按照相对于偏心量dl、d2为O时、即如图4所示，入射到光强度均匀化元件15的光束的中心光线与光强度均匀化元件15的光轴15c—致时的光利用效率的比例，来示出光利用效率B。严格来说，在图6中的仿真中，关于第2光束，假设不存在被第2弯折镜13d遮蔽的损耗光来求出光利用效率B。关于第I光束，图6所示的光利用效率B是第2弯折镜13d具有充分的大小，不存在由于不被第2弯折镜13d反射而不能入射到入射面15a的损耗光时的效率。根据图6，在偏心量dl为O时，光利用效率B成为I。在偏心量dl为O. 5mm时，光利用效率B为O. 99，偏心量dl依次增加为1mm、I. 5mm,2mm时，光利用效率B依次降低为
0.97,0. 92,0. 84。在实施方式I中，例如使偏心量dl以及d2都成为I. 5mm,以使光利用效率B提高为O. 9以上、且来自第2光源灯12的第2光束L2不易被第I弯折镜14遮蔽(即、缓和干涉)。但是，可根据各结构的形状、尺寸、配置、光束的前进方向、各结构的光学特性、所要求的性能等的各种因素来确定偏心量dl以及d2。在图6中，相对于光强度均匀化元件15的截面形状为7mmX4. 5mm，在使偏心量dl 为I. 5mm时,如图13(a)所不,光强度均勻化兀件15的入射端15a处的分布也是在偏移了
1.5mm的位置上会聚。同样地,在使偏心量d2为I. 5mm时,如图13(b)所不,光强度均勻化兀件15的入射端15a处的分布也成为偏移了 I. 5mm的分布。这样，在使偏心量dl以及d2为I. 5mm的情况下，光强度均匀化元件15的入射端15a处的来自光源灯11以及光源灯12的会聚光束的分布如图2(b)所示，构成为各个灯的会聚光束的一部分重叠，因此能够提高光利用效率。图7是示出偏心量d3与光利用效率C之间的关系的仿真计算结果的图。如图4所示，在实施方式I中，为了极力避免与来自第2光源灯12的第2光束L2之间的干涉，将第I弯折镜13d的光强度均匀化元件15的光轴15c侧的端部13e配置在光强度均匀化元件15的光轴15c上或比光强度均匀化元件15的光轴15c更靠第I光源灯11侧(图4中的上侧)。在图7中示出了将图4中的偏心量dl固定为I. 5mm，使偏心量d3变化时的光利用效率C的仿真计算结果。图7中的光利用效率C被示出为相对于偏心量d3为1_时的光利用效率的比例。在图7中示出了使偏心量d3从Imm变化到5mm时的光利用效率C的变化。由图7可知，当偏心量d3小时，来自中继光学系统13的光束被光强度均匀化元件15的侧面(图4中的光强度均匀化元件15的上侧)遮蔽，光利用效率C降低。可知当使偏心量d3从Imm逐渐变大时，光利用效率C慢慢变高，在偏心量d3为3mm以及3. 5mm时，光利用效率C变得最高。在实施方式I中，虽然使用两个光源灯，在合成部中配置有第2弯折镜13d，但是来自两个光源灯11、12的光束的一部分成为不能入射到光强度均匀化元件15的入射端15a的损耗光。作为损耗光的主要种类，如图18所示，在来自光源灯11的光束中，存在不被弯折镜13d反射而穿过去的光束L11、虽然被弯折镜13d反射但不入射到光强度均匀化元件15的入射端15a的光束L12、以及不被弯折镜13d反射而朝向偏离了光强度均匀化元件15的入射端15a的方向的光束L13。另外，在来自光源灯12的光束中，被弯折镜13d的背面吸收或反射的光束L21、和不能入射到光强度均匀化元件15的入射端15a的如L22那样的光束，成为损耗光。弯折镜13d具有如下所述的位置和大小使尽可能多的第I光束LI朝向入射端15a反射，且被遮蔽的第2光束L21尽可能地少。在图7中，对光利用效率C的变化进行了说明，由于当偏心量d3小时，来自光源灯11的光束中的损耗光Lll的成分增加，因此光源灯11的光利用效率降低。另一方面，关于来自光源灯12的光束，由于越接近光强度均匀化元件15的入射端15a则越成为会聚的光束，因此当偏心量d3小时，损耗光L21以及L22减少，光源灯22的光利用效率提高。与此相对，当偏心量d3逐渐增大时，光源灯11的光利用效率提高，而相反光源灯12的光利用效率降低，因此到偏心量d3成为某个规定值为止，光源灯12和光源灯22总体的光利用效率C提高。但是，当偏心量d3超过规定值而变得过大时(在图7中当偏心量d3超过3. 5mm时)，对于光源灯11和光源灯12都是在光束直径大的地方(即、会聚不充分的地方)配置第2弯折镜13，损耗光成分增加、光利用效率C也降低。图8是示出第2弯折镜(最终弯折部)13的形状的一例的图。图8所示的弯折镜13d被配置为光强度均匀化元件15侧的端面13e位于光强度均匀化元件15的光轴15c上。也就是说，被配置为端面13e成为与第2光束L2的中心光线(S卩、光轴12c)平行的面。为了将来自第I光源灯11的第I光束LI尽可能多地引导到光强度均匀化元件15的入射端15a，希望将第2弯折镜13d的反射面13f配置得尽可能大。另一方面，为了极力避免第2弯折镜13d与来自第2光源灯12的第2光束L2之间的干涉，希望将第2弯折镜13d构成得尽可能小。因此，如图8所示，将第2弯折镜13d的位于光强度均匀化元件15的光轴15c侧的端部13e构成为，第2弯折镜13d的反射面13f比背面13g大。在图8中，以第2弯折镜13d的反射面13f与端部13e所成的角度为锐角(小于90° )，端部13e与光轴15c大致平行的方式配置。也可以是端部13e与光轴15c具有规定的角度，端部13e中的接近入射面15a的一侧与光轴15c之间的距离，小于端部13e中的远离入射面15a的一侧与光轴15c之间的距离。由此，在来自第I光源灯11的第I光束LI的光利用效率变高的同时，来自第2光源灯12的第2光束L2与第2弯折镜13d之间的干涉也变小，还能够提高第2光源灯12的光利用效率。图9是示出第2弯折镜(最终弯折部)的形状的另一例的图。图9所示的弯折镜13d2被配置为光强度均匀化元件15侧的端面13e2位于光强度均匀化元件15的光轴15c上。为了将来自第I光源灯11的第I光束LI尽可能多地引导到光强度均匀化元件15的入射端15a，希望将第2弯折镜13d2的反射面13f2配置得尽可能大。另一方面，为了极力避免第2弯折镜13d2与来自第2光源灯12的第2光束L2之间的干涉，希望将第2弯折镜13d2构成得尽可能小。因此，如图9所示，用凸状的曲面来构成第2弯折镜13d2的位于 光强度均匀化元件15的光轴15c侧、即与第2光束相对的一侧的端部13e2，使第2弯折镜13d2的反射面13f2比背面13g2大。在图9中，使第2弯折镜13d2的反射面13f2与端部13e2所成的角度成为锐角(小于90° )。用凸状的曲面来构成端部13e2的理由是，当反射面13f2与端部13e2所成的角度过小时，在结构上脆弱，并且很难制造。由此，由于如图9的第2弯折镜13d2的端面13e2的角部13h2所示那样，使图8的第2弯折镜13d的端面13e的角部13h圆钝，因此不易遮蔽从第2光源灯朝向光强度均匀化元件15的入射端15a的第2光束L2。也就是说，构成为反射面13f2的位于光强度均匀化元件15的光轴15c侧的一端最接近第2光束的中心光线(即、第2光束L2的光轴12c)的形状。换言之，是如下所述的形状设从反射面13f2的最接近第2光束L2的中心光线的边到第2光束L2的中心光线的距离为第I距离，设从第2弯折镜13d2的与第2光束L2相对的侧面的最接近第2 光束L2的中心光线的部分到上述第2光束L2的中心光线的距离为第2距离时，第I距离小于等于第2距离。在采用了图9的结构的第2弯折镜时，在来自第I光源灯11的第I光束LI的光利用效率提高的同时，来自第2光源灯12的第2光束L2与第2弯折镜13d2之间的干涉也变小，还能够使第2光源灯12的光利用效率提高。另外，在图8以及图9中，虽然构成为第2弯折镜13d、13d2的反射面13f、13f2比背面13g、13g2大，但这是对于光强度均匀化元件15的光轴15c侧的形状适用的概念。例如，如图19所示，在第2弯折镜13d3中，如果使背面13g3的形状成为与光强度均匀化元件15的光轴15c侧的光反射面13f3的形状 相同的形状，则反射面13f3与背面13g3的大小相同。在如图19所示构成的情况下，如果光反射面13f3与端部(侧面)13f2所成的角度为锐角，则与图8以及图9的情况相同，能够提高光利用效率。换言之，如果是从反射面12F3的最接近第2光束L2的中心光线12c的端部到第2光束L2的中心光线12c的第I距离(例如，ul)小于等于从侧面13f2的最接近第2光束L2的中心光线12c的部分到第2光束L2的中心光线12c的第2距离(例如，u2)的形状(即、ul ( u2)，则能够提高光利用效率。不过，如图9所示，即使ul >u2，也可以通过极力减小(ul-u2)的值来提高光利用效率。如以上说明，在实施方式I的投影型显示装置中，由于配置为第I光源灯11的第I光轴Ilcl、llc2、llc3与第2光源灯12的第2光轴12c不具有相互一致的部分、且第I光束LI的光轴llc3与第2光束L2的光轴12c大致平行，因此能够构成为光利用效率高、光源灯11以及光源灯12相互不会受到损耗光的影响的结构。另外，在实施方式I的投影型显示装置中，由于将第I光源灯11和第2光源灯12的会聚点配置在光强度均匀化元件15的入射端15a附近，因此能够提供光利用效率高的光学系统。进而，在实施方式I的投影型显示装置中，由于构成为在第I光源灯11与第2会聚点F2之间配置中继光学系统13，将第I光束LI会聚到光强度均匀化元件15的入射端15a附近，将第2光源灯12的第2光束L2直接会聚到光强度均匀化元件15的入射端15a附近，因此能够提供光利用效率高的光学系统。另外，在实施方式I的投影型显示装置中，由于第2弯折镜13d形成为其反射面13的形状与背面13g的形状不同且比背面13g大，因此能够提供光利用效率高的光学系统。另外，在实施方式I的投影型显示装置中，也可以在弯折镜13a或弯折镜13d、或者其双方，具备作为能够调整位置或角度、或者其双方的弯折调整部的镜调整单元(后述的图11所示的机构27)。此时，即使在光源灯11以及光源灯12的大小不同或发生了位置偏移的情况下，也可通过镜调整单元的调整来调整入射到光强度均匀化元件15的光量，因此能够提供光利用效率高的光学系统。进而，在具有如上所述的镜调整单元的情况下，在仅点亮光源灯11或光源灯12中的任意一方的I灯点亮时，通过将弯折镜13d的位置移动到没有点亮的光源侧(在仅点亮光源灯11时，将弯折镜13d移动到光源灯12的光轴12c侧，在仅点亮光源灯12时，将弯折镜13d移动到光源灯11的光轴Ilc侧。)，能够提供I灯点亮时的光利用效率高的光学系统。另外，在实施方式I的投影型显示装置中，也可以在光源灯11或光源灯12、或者其双方，具备作为能够调整位置或角度、或者其双方的光源调整部的光源灯调整单元(后述的图11所示的机构28)。此时，即使在光源灯11以及光源灯12的位置产生了偏差、或者大小不同的情况下，也可通过光源灯调整单元的调整来调整入射到光强度均匀化元件15的光量，因此能够提供光利用效率高的光学系统。
另外，在实施方式I的投影型显示装置中，在用以内表面作为光反射面的管状部件来构成光强度均匀化元件15时，光强度均匀化元件15的保持构造的设计容易，并且提高了散热性能。另外，在实施方式I的投影型显示装置中，在光强度均匀化元件15为由透明材料构成的截面形状为多边形的柱状光学元件时，光强度均匀化元件15的设计变得容易。进而，在实施方式I的投影型显示装置中，由于以会聚点比第2弯折镜13d更靠光强度均匀化元件15侧的方式配置了各结构，因此能够抑制弯折镜的发热。因此，在实施方式I的投影型显示装置中，不需要增加冷却装置等，而能够实现结构的简单化、装置的低成本化。实施方式2.图10是概略地示出本发明的实施方式2的投影型显示装置的光源装置20的结构的图。图10所示的光源装置20能够作为图I (实施方式I)所示的投影型显示装置的光源 装置来使用。图10中的第I光源灯21、第2光源灯22、中继光学系统23是分别与图I (实施方式I)中的第I光源灯11、第2光源灯12、中继光学系统13相同的结构。图10中的发光体21a及22a、椭圆面镜21b及22b、光轴21cl、21c2、21c3及22c是分别与图I中的发光体Ila及12a、椭圆面镜Ilb及12b、光轴llcl，llc2，llc3及12c相同的结构。在实施方式2的投影型显示装置中，光强度均匀化元件25的结构与上述实施方式I的投影型显示装置不同。如图10所示，在实施方式2中，光强度均匀化元件25是通过在光轴25c的方向上排列配置多个透镜元件二维排列而成的透镜阵列25a以及25b而构成的。第I光源灯11的第I光束LI和第2光源灯12的第2光束L2通过透镜元件26a和26b而引导到光强度均匀化元件25。通过如此结构的光强度均匀化元件25，使照明光束的截面内的强度分布变得均匀，能够抑制照度不均。另外，根据实施方式2的投影型显示装置，与用光学部件的棒来构成光强度均匀化元件的情况相比，能够减小光轴25c方向的尺寸。另外，在实施方式2中，上述以外的方面与上述实施方式I的情况相同。实施方式3.图11是概略地示出本发明的实施方式3的投影型显示装置的光源装置30的结构的图。图11所示的光源装置30能够作为图I (实施方式I)所示的投影型显示装置的光源装置来使用。图11中的第I光源灯31、第2光源灯32、中继光学系统33以及光强度均匀化元件35是分别与图I中的第I光源灯11、第2光源灯12、中继光学系统13以及光强度均匀化元件15相同的结构。图11中的发光体31a及32a、椭圆面镜31b及32b、光轴31cl，31c2，31c3及32c、入射端35a、出射端35b以及光轴35c是分别与图I中的发光体Ila及12a、椭圆面镜Ilb及12b、光轴Ilcl、llc2、llc3及12c、入射端15a、出射端15b以及光轴15c相同的结构。在实施方式3的投影型显示装置中，第I光源灯31、第2光源灯32、中继光学系统33以及光强度均勻化兀件35被配置为,第I光束LI的光轴31cl、31c2、31c3与光强度均匀化元件35的光轴35c不平行，第2光束L2的光轴32c与光强度均匀化元件35的光轴35c不平行，这一点与上述实施方式I的投影型显示装置的情况不同。因此，第I光源灯31以及第2光源灯32被配置为，刚从第I光源灯31射出之后的第I光束LI的光轴31cl和刚从第2光源灯32射出之后的第2光束L2的光轴32c成为随着光束前进而相互之间的间隔增加的方向。根据实施方式3的结构，能够缩短光源装置30的图11中的纵向尺寸。另外，如图11所示，在投影型显示装置中，也可以在弯折镜33a或弯折镜33d、或者其双方，具备能够调整位置或角度、或者其双方的镜调整单元(机构27)。进而，在投影型显示装置中，也可以在光源灯11或光源灯12、或者其双方，具备能够调整位置或角度、或者其双方的光源灯调整单元(机构28)。机构27及28包括能够使支撑弯折镜或光源灯的结构物移动或转动的机械结构。另外，机构27及28还可以具有对构成这些机构的机械结构进行驱动的电机等的驱动源。另外，机构27及28还可以应用于其他实施方式。另外，在图11中，虽然将第I光源灯31配置在图11中的上侧、将第2光源灯32配置在图11中的下侧，但是也可以配置在相反的方向上。另外，也可以将第I光源灯31或第2光源灯32中的任意一方的光轴(31cl或32c)配置为与光强度均匀化元件35的光轴35c平行。关于刚从第I光源灯31射出之后的I个光束的光轴和刚从第2光源灯32射出之后的第2光束的光轴各自的倾斜角度，虽然可以相对于图11的水平方向为约±15°左右的 范围内，但是为了得到第I光源灯31及第2光源灯32的充分的性能，优选构成为±5°的范围内。另外，当考虑中继光学系统33的结构的容易性等时，更优选构成为第I光源灯31的光轴及第2光源灯32的光轴的倾斜角度相对于图11的水平方向为±3°的范围内(或者构成为第I光源灯31的光轴与第2光源灯32的光轴所成的角度为6°以内)。另外，在实施方式3中，上述以外的方面与上述实施方式I或2的情况相同。另外，也可以将实施方式3的第I光源灯31或第2光源灯32应用于实施方式2的光源装置。实施方式4.图12是概略地示出本发明的实施方式4的投影型显示装置的光源装置40的结构的图。图12所示的光源装置40能够作为图I (实施方式I)所示的投影型显示装置的光源装置来使用。图12中的第I光源灯41、第2光源灯42、中继光学系统43以及光强度均匀化元件45是分别与图I中的第I光源灯11、第2光源灯12、中继光学系统13以及光强度均匀化元件15相同的结构。图12中的发光体41a及42a、椭圆面镜41b及42b、光轴41cl、41c2、41c3及42c、入射端45a、出射端45b以及光轴45c是分别与图I中的发光体Ila及12a、椭圆面镜Ilb及12b、光轴Ilcl、llc2、llc3及12c、入射端15a、出射端15b以及光轴15c相同的结构。实施方式4的投影型显示装置具有与光强度均匀化元件45的入射端45a邻接，遮蔽(反射或吸收)来自第I光源灯41的光束中的不到达第2弯折镜43d的损耗光L5的作为遮光部的遮光板46，这一点与上述实施方式I的投影型显示装置不同。另外，遮光板46还具有遮蔽(反射或吸收)从第I光源灯41射出而朝向光强度均匀化元件45的侧面(图12中的光强度均匀化元件45的上侧的面)的光束的功能。遮光板46的材料是不透光的材料即可。遮光板46优选配置在不遮蔽从第I光源灯41朝向第2弯折镜43d的光束LI的位置上。另外，遮光板46优选具有尽可能多地遮蔽来自第I光源灯41的光束中的不到达第2弯折镜43d的损耗光L5的位置、大小(长度以及宽度)以及形状。如图12所示，在实施方式4中，能够通过遮光板46遮蔽来自第I光源灯41的光束中不到达第I弯折镜73的损耗光L5、以及来自第2光源灯72的光束中的损耗光。因此，由于从第I光源灯41朝向光强度均匀化元件45的侧面的损耗光减少，因此具有能够减少光强度均匀化元件45受到的热影响的效果。另外，在实施方式4中，上述以外的方面与上述实施方式I的情况相同。另外，也可以将遮光板46应用于上述实施方式2或3。标号说明10、20、30、40 :光源装置;11、21、31、41 :第 I 光源灯;lla、21a、31a、41a :发光体；llb、21b、31b、41b :椭圆面镜；11c1、11c2、11c3、21c1、21c2、21c3、31c1、31c2、31c3、41c1、41c2、41c3 :第 I 光源灯的光轴;12、22、32、42 :第 2 光源灯；12a、22a、32a、42a :发光体；12b、22b、32b、42b :椭圆面镜;12c、22c、32c、42c :第 2 光源灯的光轴；13、23、33、43 :中继光学系统；15、25、35、45 :光强度均勻化兀件；15a、25a、35a、45a :光强度均勻化兀件的入射端；15b、25b、35b、45b :光强度均匀化元件的出射端；15c、25c、35c、45c :光强度均匀化元件的光轴；27 :镜調整单元；28 :光源灯調整单元；61 :图像显示元件；62 :投影光学系统；63 屏幕；46 :遮光板；L1 第I光束；L2 :第2光束；L3 :来自光强度均匀化元件的出射光；L4 图像光山5 :第I损耗光；L10 :第I光束的中心光线；L20 :第2光束的中心光线；F1 :第I会聚点；F2 第2会聚点；F3 :第3会聚点。
权利要求
1.一种光源装置，其特征在于，该光源装置具有 光强度均匀化部，其具有入射端及出射端，将入射到所述入射端的光束转换为强度分布被均匀化的光束，从所述出射端射出； 第I光源部，其射出第I光束； 至少一个弯折部，其将从所述第I光源部射出的所述第I光束引导到所述光强度均匀化部的所述入射端；以及 第2光源部，其射出朝向所述光强度均匀化部的所述入射端的第2光束， 以如下方式配置所述第I光源部、所述第2光源部以及所述弯折部从所述第I光源部经由所述弯折部而到达所述光强度均匀化部的所述入射端的所述第I光束的光轴、和从所述第2光源部到达所述光强度均匀化部的所述入射端的所述第2光束的光轴不具有一致的部分，且即将入射到所述光强度均匀化部的所述入射端之前的所述第I光束的光轴、和从 所述第2光源单元到达所述光强度均匀化部的所述入射端的所述第2光束的光轴为相互大致平行的方向。
2.根据权利要求I所述的光源装置，其特征在于， 所述第I光束中的从所述第I光源部的发光中心射出的所述第I光束的中心成分、以及所述第2光束中的从所述第2光源部的发光中心射出的所述第2光束的中心成分是会聚光束， 以如下方式配置所述第I光源部、所述第2光源部、最终弯折部以及所述光强度均匀化部所述第I光束的中心成分的最终会聚点比所述最终弯折部更靠所述光强度均匀化部侦牝所述第2光束的中心成分的会聚点比所述最终弯折部更靠所述光强度均匀化部侧，其中所述最终弯折部是被配置为最接近所述光强度均匀化部的所述弯折部。
3.根据权利要求2所述的光源装置，其特征在于， 所述最终弯折部被配置为不遮蔽从所述第2光源部朝向所述入射端的所述第2光束的中心光线的位置。
4.根据权利要求2或3所述的光源装置，其特征在于， 所述光源装置具有弯折调整部，其能够调整至少一个所述弯折部的位置或角度、或者位置和角度二者。
5.根据权利要求I至4中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述光源装置具有光源调整部，其能够调整所述第I光源部及/或第2光源部的位置或角度、或者位置和角度二者。
6.根据权利要求I至5中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述第I光束的中心光线入射到所述入射端的第I入射位置、和所述第2光束的中心光线入射到所述入射端的第2入射位置是相互不同的位置，且是偏离了所述光强度均匀化部的光轴的位置。
7.根据权利要求6所述的光源装置，其特征在于， 所述第I入射位置和所述第2入射位置是以所述光强度均匀化部的光轴为基准相互偏向相反侧的位置。
8.根据权利要求6所述的光源装置，其特征在于， 所述入射端是具有长边和短边的矩形，所述第I入射位置和所述第2入射位置是在所述长边方向上，以所述光强度均匀化部的光轴为基准相互偏向相反侧的位置。
9.根据权利要求8所述的光源装置，其特征在于， 所述第I入射位置和所述第2入射位置是通过所述光强度均匀化部的光轴且在所述长边方向上延伸的第I基准线上的位置。
10.根据权利要求6所述的光源装置，其特征在于， 所述入射端是具有长边和短边的矩形， 所述第I入射位置和所述第2入射位置是在所述长边方向上，以所述光强度均匀化部的光轴为基准相互偏向相反侧的位置，且是在所述短边方向上，以所述光强度均匀化部的光轴为基准相互偏向相反侧的位置。
11.根据权利要求I至10中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述最终弯折部具有反射所述第I光束的反射面、作为所述反射面的背侧的面的背面、以及连结所述反射面和所述背面的侧面， 所述最终弯折部是如下所述的形状从所述反射面的最接近所述第2光束的中心光线的边到所述第2光束的中心光线的第I距离，小于等于从所述侧面的最接近所述第2光束的中心光线的部分到所述第2光束的中心光线的第2距离。
12.根据权利要求I至11中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述光源装置具有遮光部，其与所述入射端邻接设置，遮蔽从所述第I光源部射出、不入射到所述入射端的光。
13.根据权利要求I至12中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述光强度均匀化部包含以内表面作为光反射面的管状部件。
14.根据权利要求I至12中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述光强度均匀化部包含由透明材料构成的多棱柱状的部件。
15.根据权利要求I至12中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 所述光强度均匀化部包含多个透镜元件二维排列而成的透镜阵列。
16.根据权利要求I至15中的任意一项所述的光源装置，其特征在于， 以如下方式配置所述第I光源部及所述第2光源部刚从所述第I光源部射出后的所述第I光束的光轴、和刚从所述第2光源部射出后的所述第2光束的光轴大致平行。
17.根据权利要求16所述的光源装置，其特征在于， 以如下方式配置所述第I光源部及所述第2光源部刚从所述第I光源部射出后的所述第I光束的光轴、和从所述第2光源部射出的所述第2光束的光轴所成的角度为6°以内。
18.一种投影型显示装置，其具有权利要求I至17中的任意一项所述的光源装置。
全文摘要
本发明提供一种光利用效率高、屏幕上的照度均匀性也高、能够延长光源装置的寿命的投影型显示装置，在该投影型显示装置的光源装置(10)中，以如下方式配置第1光源灯(11)、第2光源灯(12)以及中继光学系统(13)从第1光源灯(11)经由中继光学系统(13)到达光强度均匀化元件(15)的入射端(15a)的第1光束(L1)的光轴(11c1、11c2、11c3)、和从第2光源灯(12)到达入射端(15a)的第2光束的光轴(12c)不具有一致的部分，且即将入射到入射端(15a)之前的第1光束(L1)的光轴(11c3)、和从第2光源灯(12)到达入射端(15a)的第2光束(L2)的光轴(12c)为相互大致平行的方向。
文档编号G03B21/14GK102804056SQ20108002495
公开日2012年11月28日 申请日期2010年4月6日 优先权日2009年4月8日
发明者小岛邦子, 山田旭洋, 木田博, 松尾裕文 申请人:三菱电机株式会社